公开(公告)号：WO2021153220A1

公开(公告)日：2021-08-05

申请号：PCT/JP2021/000714

申请日：2021-01-12

申请人： 昭和電工株式会社

发明人： 松井　一真

IPC分类号： C23F1/30 ,  H01L21/304

摘要： 二酸化ケイ素、窒化ケイ素、ポリシリコン、金属単体等の除去を抑えつつ、金属の酸化物、金属の窒化物、及び金属の酸窒化物を選択的に除去することが可能な金属化合物の除去方法を提供する。金属の酸化物、金属の窒化物、及び金属の酸窒化物から選ばれる少なくとも１種の金属化合物を、処理液と接触させることにより、被処理物から除去する。上記金属は、タングステン、コバルト、ニッケル、タンタル、チタン、鉄、銅、及びモリブデンから選ばれる少なくとも１種である。処理液は、カルボン酸及びその塩から選ばれる少なくとも１種の除去用化合物を含有する水溶液であり、処理液中の除去用化合物の合計の濃度は２質量％以上である。

公开(公告)号：WO2020037450A1

公开(公告)日：2020-02-27

申请号：PCT/CN2018/101246

申请日：2018-08-20

申请人： 唐建

发明人： 唐建

IPC分类号： C23F1/30 ,  C23F1/16 ,  C23F1/14 ,  C23F1/10 ,  C23F1/00 ,  C23F1/28 ,  C23F15/00

摘要： 一种表面耐腐膜的制造方法，腐蚀液包括盐酸、硝酸、硫酸、水、硫酸铜和三氯化铁；腐蚀反应过程：将所需腐蚀的铸件置于腐蚀槽中，将所述腐蚀液倒入腐蚀槽中，腐蚀液要没过铸件表面；当有黑色物质从铸件表面扩散时，腐蚀反应开始，腐蚀时间20-30min；腐蚀反应结束后，将铸件取出，用毛刷将反应后残留在铸件表面的黑色产物刷掉，然后用清水冲洗，即可得到表面光亮的宏观组织。经过抗腐蚀处理后的工件更加的耐腐蚀，能够经受油气田的处理和加工，可以进行不同工况的使用。

公开(公告)号：WO2014178423A1

公开(公告)日：2014-11-06

申请号：PCT/JP2014/062068

申请日：2014-05-01

申请人： 富士フイルム株式会社

发明人： 室　祐継 ,  上村　哲也 ,  高橋　智美 ,  小山　朗子 ,  水谷　篤史

IPC分类号： H01L21/308 ,  C23F1/28 ,  C23F1/30 ,  H01L21/28 ,  H01L21/306

CPC分类号： C23F1/30 ,  C23F1/26 ,  C23F1/28 ,  H01L21/32134 ,  H01L29/41725 ,  H01L29/665 ,  H01L29/7833

摘要： 　ゲルマニウム（Ｇｅ）を含む第一層と、ニッケルプラチナ（ＮｉＰｔ）、チタン（Ｔｉ）、ニッケル（Ｎｉ）、およびコバルト（Ｃｏ）から選ばれる少なくとも１種の特定金属元素を含む第二層とを有する半導体基板について、第二層を選択的に除去するエッチング方法であって、ノンハロゲン酸性化合物を含むエッチング液を第二層に接触させて第二層を除去する半導体基板のエッチング方法。

摘要翻译： 一种半导体衬底蚀刻方法，用于从具有包括锗（Ge）的第一层的半导体衬底以及包括选自镍铂（NiPt），钛（Ti），镍（至少一种）的至少一种特定金属元素的第二层的半导体衬底选择性地除去第二层） Ni）和钴（Co），并且通过使含有非卤素的酸性化合物的蚀刻溶液与第二层接触来除去第二层。

公开(公告)号：WO2014115758A1

公开(公告)日：2014-07-31

申请号：PCT/JP2014/051237

申请日：2014-01-22

申请人： 昭和電工株式会社

发明人： 斉藤　康夫 ,  佐藤　冬樹

IPC分类号： H01L21/308 ,  C23F1/30 ,  H01L21/28 ,  H01L21/336 ,  H01L29/78

CPC分类号： C23F1/30 ,  C23F1/44 ,  H01L21/28 ,  H01L21/32134

摘要： 　珪素系材料、ならびにＡｌ、Ｗ、Ｔｉ、ＴｉＮおよびＴａＮに対してダメージを与えることなくニッケル白金合金系金属を選択的に除去することができるエッチング液を提供する。本開示によれば、カルボン酸、酸化性を有するハロゲン化合物および水を含み、前記カルボン酸濃度が７５質量％以上９９質量％以下、かつ酸化性を有するハロゲン化合物のハロゲン原子のエッチング液中の濃度が１．４～５５ｍｍｏｌ／ｋｇであるエッチング液が提供される。

摘要翻译： 提供了可以选择性地去除镍铂合金金属而不损坏硅材料或Al，W，Ti，TiN和TaN的蚀刻溶液。 该蚀刻溶液含有羧酸，氧化性卤素化合物和水。 羧酸的浓度为75-99质量％，蚀刻溶液中氧化性卤素化合物的卤素原子浓度为1.4〜55mmol / kg。

公开(公告)号：WO2013029785A1

公开(公告)日：2013-03-07

申请号：PCT/EP2012/003622

申请日：2012-08-29

申请人： DEDEK, Petr

发明人： DEDEK, Petr

IPC分类号： C22B7/00 ,  C23F1/30 ,  C23F1/44 ,  C22B11/00 ,  C22B3/24

CPC分类号： C22B11/04 ,  C22B1/005 ,  C22B3/16 ,  C22B3/24 ,  C22B7/007 ,  C22B11/042 ,  C22B11/046 ,  C23F1/30 ,  C23F1/44 ,  Y02P10/214 ,  Y02P10/234

摘要： A method for removing metal and/or precious metal-containing depositions from substrates, wherein said substrate is subjected to treatment with an organo amine protectant component P and an inorganic active component A. Component P may be formed in situ by reaction with component R. Component P is an organic amine and/or organic amine hydrochloride (preferably diisopropylamine hydrochloride), component A is an inorganic compound (preferably inorganic acid or a mixture thereof) and component R is an organic compound that can be split along the C- N bond by the component A into an organic amine (preferably dimethylformamide or N-methyl pyrrolidone). The metals in the form of organo-metallic complexes can be isolated and/or separated by means of different chemical reactions (preferably reduction reactions) and/or biosorption (preferably with seaweed or yeast).

摘要翻译： 一种用于从底物中除去金属和/或贵金属沉积物的方法，其中所述基底用有机胺保护剂组分P和无机活性组分A进行处理。组分P可以通过与组分R的反应原位形成。 组分P是有机胺和/或有机胺盐酸盐（优选二异丙胺盐酸盐），组分A是无机化合物（优选无机酸或其混合物），组分R是可以沿着C-键分裂的有机化合物 通过组分A转化为有机胺（优选二甲基甲酰胺或N-甲基吡咯烷酮）。 可以通过不同的化学反应（优选还原反应）和/或生物吸附（优选与海藻或酵母）分离和/或分离有机金属络合物形式的金属。

公开(公告)号：WO2008154926A1

公开(公告)日：2008-12-24

申请号：PCT/DK2008/000234

申请日：2008-06-20

申请人： DANMARKS TEKNISKE UNIVERSITET - DTU ,  TANG, Peter, Torben ,  ARENTOFT, Mogens ,  BAY, Niels ,  BORRILD, Morten, Jerne ,  MIZUSHIMA, Io ,  JENSEN, Jørgen, Dai ,  PALDAN, Nikolas, Aulin

发明人： TANG, Peter, Torben ,  ARENTOFT, Mogens ,  BAY, Niels ,  BORRILD, Morten, Jerne ,  MIZUSHIMA, Io ,  JENSEN, Jørgen, Dai ,  PALDAN, Nikolas, Aulin

IPC分类号： C25D5/48 ,  C23F1/30 ,  H01M4/38 ,  H01M4/98 ,  H05B3/00 ,  C25F3/14

CPC分类号： C25D3/60 ,  B01J25/00 ,  B01J37/06 ,  C23C26/00 ,  C23C30/00 ,  C23F1/02 ,  C25D5/48 ,  F28F13/185 ,  H01M8/02 ,  H01M8/0208 ,  H01M8/0228 ,  H01M8/0232 ,  H01M8/0245 ,  Y02P70/56

摘要： A microporous coating or structure is established as a thin metallic layer by deposition of one or more alloys on a metallic substrate, each of said alloys consisting of two or more phases, one of which can be selectively dissolved in a solution that will not significantly attack the other phase or phases. Such microporous coatings or structures are useful in the production of various product types, such as fuel cells, catalysts, microfilters, heat exchangers, micro-components and heat transfer devices.

摘要翻译： 通过在金属基材上沉积一种或多种合金，将微孔涂层或结构建立为薄金属层，所述合金由两个或多个相组成，其中一个可以选择性地溶解在不会显着侵蚀的溶液中 另一个阶段或阶段。 这种微孔涂层或结构可用于生产各种产品类型，例如燃料电池，催化剂，微过滤器，热交换器，微组件和传热装置。

公开(公告)号：WO2008129891A1

公开(公告)日：2008-10-30

申请号：PCT/JP2008/051873

申请日：2008-02-05

申请人： 東ソー株式会社 ,  高橋 史治 ,  原 靖

发明人： 高橋 史治 ,  原 靖

IPC分类号： H01L21/308 ,  C23F1/14 ,  C23F1/30 ,  C23F1/40

CPC分类号： H01L21/32134 ,  C23F1/30 ,  C23F1/40

摘要： 　装置を汚染せず、低コストで、強アルカリを使用することなく、ルテニウムをエッチングできる、エッチング用組成物、及びそれを用いたエッチング方法を提供する。 　塩素及び水を含み、フッ素を含まず、なおかつｐＨが１２未満であることを特徴とするルテニウムのエッチング用組成物。

摘要翻译： 用于不会污染该装置的蚀刻用组合物是廉价的，不含强碱，并且可以蚀刻钌; 以及用该组合物进行蚀刻的方法。 用于钌蚀刻的组合物的特征在于包含不含氟并且pH低于12的氯和水。

公开(公告)号：WO2007128345A1

公开(公告)日：2007-11-15

申请号：PCT/EP2006/062138

申请日：2006-05-08

申请人： ECOLAB INC. ,  TYBORSKI, Thomas

发明人： TYBORSKI, Thomas

IPC分类号： C11D1/37 ,  C11D1/83 ,  C11D3/02 ,  C11D3/12 ,  C11D3/20 ,  C11D3/28 ,  C11D3/36 ,  C23F1/44 ,  C23F1/30 ,  C11D1/34

CPC分类号： C23G1/083 ,  C11D1/342 ,  C11D1/345 ,  C11D1/37 ,  C11D1/78 ,  C11D1/83 ,  C11D3/0073 ,  C11D3/042 ,  C11D3/044 ,  C11D3/1213 ,  C11D3/122 ,  C11D3/2075 ,  C11D3/28 ,  C11D3/361 ,  C11D11/0029 ,  C23G1/10 ,  C23G1/103 ,  C23G1/125

摘要： The invention relates to a acidic composition for cleaning surfaces of metal or alloys which are susceptible to corrosion comprising i) an ester of phosphoric acid, diphosphoric acid or polyphosphoric acid, ii) a benzotriazole derivative of the general formula (I) in which each of the groups R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 is the same or different and is hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, or an acyl group, iii) a phosphonic acid of the general formula R 6 -PO-(OH) 2 (II) in which the group R 6 is alkyl group, alkenyl group, aryl group, or arylalkyl group and iv) an acidic source. The invention further relates to a use solution and to a method for cleaning.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于清洁容易腐蚀的金属或合金表面的酸性组合物，其包括：i）磷酸，二磷酸或多磷酸的酯，ii）通式（I）的苯并三唑衍生物，其中 基团R 1，R 2，R 3，R 4和R 5 >相同或不同，为氢原子，烷基，烯基或酰基，iii）通式为R 6的膦酸-OPO - （OH） 其中基团R 6为烷基，烯基，芳基或芳基烷基的基团（II），和iv）酸性源。 本发明还涉及使用溶液和清洁方法。

公开(公告)号：WO2007077612A1

公开(公告)日：2007-07-12

申请号：PCT/JP2005/024121

申请日：2005-12-28

申请人： 住友金属鉱山株式会社 ,  大迫 敏行 ,  小向 哲史

发明人： 大迫 敏行 ,  小向 哲史

IPC分类号： C23C14/58 ,  C23F1/18 ,  C23F1/22 ,  C23F1/30 ,  H01G4/33 ,  H01G9/00 ,  H01G9/04

CPC分类号： C23C14/5853 ,  B21J5/08 ,  C23C14/06 ,  C23C14/16 ,  C23C14/3414 ,  C23C14/5873 ,  C23C26/00 ,  C23F1/16 ,  C25D11/26 ,  H01G9/04 ,  H01G9/052 ,  Y10T29/417 ,  Y10T428/12153

摘要： 　表面積の大きい多孔質バルブ金属薄膜およびその製造方法、並びにその薄膜を陽極体として利用した容量密度の大きい薄膜キャパシタを提供する。１）バルブ金属と異相成分の粒子径が１ｎｍ～１μｍの範囲にあり、かつ、バルブ金属と異相成分が均一に分布した薄膜を作製する工程、２）熱処理により粒子径を調整をするとともに適度に焼結を進める工程、３）異相部分を除去する工程、からなる製造方法を用いて、多孔質バルブ金属薄膜を製造する。

摘要翻译： 本发明提供一种表面积大的多孔阀金属薄膜，其制造方法，利用薄膜作为阳极体的容量密度大的薄膜电容器。 多孔阀金属薄膜通过以下方法制造：1）制备薄膜的步​​骤，其中阀金属和异相成分的粒径在1nm〜1μm的范围内，阀金属和 异相成分均匀分布，2）对薄膜进行热处理以调整粒径并适当地烧结薄膜的步骤，以及3）除去异相部分的步骤。

公开(公告)号：WO2007040046A1

公开(公告)日：2007-04-12

申请号：PCT/JP2006/318576

申请日：2006-09-20

申请人： 荏原ユージライト株式会社 ,  谷本 樹一 ,  小林 宣夫

发明人： 谷本 樹一 ,  小林 宣夫

IPC分类号： C23F1/30 ,  H05K3/06

CPC分类号： C23F1/28 ,  C23F1/26 ,  C23F1/44 ,  H05K3/067 ,  H05K3/388

摘要： ニッケル－クロム合金層の除去が十分に行え、更に、エッチング中にエッチング液中の銅濃度が高くなってもエッチング能力が低下しないニッケル－クロム合金用エッチング液を提供することを目的とし、当該ニッケル－クロム合金用エッチング液は次の成分（ａ）～（ｃ） 　（ａ）硫酸またはスルホン酸化合物 　（ｂ）塩酸または塩素化合物 　（ｃ）亜硝酸塩 を含有することを特徴とする。

摘要翻译： 公开了一种镍 - 铬合金的蚀刻剂，其能够充分地除去镍 - 铬合金层，并且即使在蚀刻期间蚀刻剂中的铜浓度增加时，蚀刻能力也不劣化。 镍 - 铬合金蚀刻剂的特征在于含有以下组分（a） - （c）。 （a）硫酸或磺酸化合物（b）盐酸或氯化合物（c）亚硝酸盐