公开(公告)号：WO2015075231A1

公开(公告)日：2015-05-28

申请号：PCT/EP2014/075404

申请日：2014-11-24

申请人： AKK GMBH

发明人： KESPER, Peter

IPC分类号： B05C9/06 ,  G03F7/00 ,  G03F7/12 ,  C23F1/00 ,  B41M7/00 ,  B44C1/00 ,  B41M1/20 ,  B44C1/22 ,  B29C33/38 ,  B29C45/37

CPC分类号： B41F15/34 ,  B29C45/372 ,  B41F19/00 ,  B41F23/00 ,  B41F31/00 ,  B41M7/00 ,  B41M7/0081 ,  B41M2205/00 ,  C23F1/00 ,  G03F7/12 ,  G03F7/24

摘要： Die Erfindung betrifft eine Schablone für ätztechnische Oberflächenstrukturierungen, ein Verfahren zur Herstellung einer Schablone für ätztechnische Oberflächenstrukturierungen, eine Druckmaschine zur Herstellung einer Schablone für ätztechnische Oberflächenstrukturierungen sowie ein Verfahren zur ätztechnischen Oberflächenstrukturierung. Eine bekannte Schablone für ätztechnische Oberflächenstrukturierungen weist eine ätzresistente Schablonenschicht [3] auf, wobei die Schablonenschicht (3) auf die zu strukturierende Oberfläche (2) übertragbar ist und wobei die Schablonenschicht [3] nach einer ätztechnischen Behandlung der zu strukturierenden Oberfläche (2) zumindest teilweise entfernbar ist, und wird erfindungsgemäß dadurch ausgestaltet und weitergebildet, dass die Schablonenschicht (3] mindestens zwei Teilbereiche (4, 5) aufweist und dass mindestens zwei Teilbereiche (4, 5) unabhängig voneinander von zu strukturierenden Oberfläche entfernbar sind.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于蚀刻技术表面结构，制造用于蚀刻技术的表面结构，在印刷机制造的掩模的蚀刻技术表面结构和表面结构化ätztechnischen的方法的掩模的方法的模具。 用于蚀刻的技术的表面结构的已知模版具有耐蚀刻模板层[3]，其中所述模板层（3）的表面上被结构化（2）是转让，其中所述模板层[3]表面的ätztechnischen处理后的被至少结构（2） 被部分地去除，并且被本发明设计的特征和开发，使得模板层（3]的至少两个部分（4,5），并且其中至少两个部分（4,5）从表面独立地移除，以构成。

公开(公告)号：WO2009038992A1

公开(公告)日：2009-03-26

申请号：PCT/US2008/075622

申请日：2008-09-08

申请人： FRY'S METALS, INC. ,  MEEUS, Thomas ,  KORSSE, Hans ,  BHATKAL, Ravindra, M.

发明人： MEEUS, Thomas ,  KORSSE, Hans ,  BHATKAL, Ravindra, M.

IPC分类号： G03F7/12 ,  B41C1/14 ,  H01L31/0224

CPC分类号： G03F7/2014 ,  B41M3/006 ,  G03F7/0015 ,  G03F7/12 ,  H01L31/022425 ,  H05K3/1225 ,  Y02E10/50

摘要： A method for providing metallization upon a semiconductor substrate utilizing a stencil having at least one aperture extending from the contact side to the fill side, the contact side of the stencil being substantially flat and forming a sharp edge with a wall of the at least one aperture, the at least one aperture being tapered such that an area of a cross-section of the at least one aperture at the fill side is larger than an area of the cross-section of the at least one aperture at the contact side. A method of forming a stencil for depositing metallization lines on a semiconductor substrate is also disclosed.

摘要翻译： 一种用于在半导体衬底上提供金属化的方法，其利用具有从接触侧延伸到填充侧的至少一个孔的模版，所述模板的接触侧基本上是平的，并且形成具有至少一个孔的壁的锋利边缘 所述至少一个孔是锥形的，使得在所述填充侧的所述至少一个孔的横截面的面积大于所述至少一个孔在所述接触侧的横截面的面积。 还公开了一种形成用于在半导体衬底上沉积金属化线的模板的方法。

公开(公告)号：WO2008022485A1

公开(公告)日：2008-02-28

申请号：PCT/CH2007/000419

申请日：2007-08-23

申请人： XPOSE HOLDING AG ,  BERNER, Peter

发明人： BERNER, Peter

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/12

CPC分类号： G03F7/12 ,  G03F7/2055 ,  G03F7/24

摘要： Eine Belichtungsvorrichtung zur Herstellung von Siebdruckschablonen (5) hat eine Halterung (4) für die Siebdruckschablone (5) sowie ein Belichtungssystem, das mindestens eine, einen Lichtstrahl erzeugende Lichtquelle und eine Optik in einem Belichtungskopf (9) aufweist. Ferner ist eine digitale Signale liefernde Signalquelle (Computer) vorhanden, welche mit dem Belichtungssystem in einer Weise in Verbindung steht, dass entsprechend den Signalen die ganze Siebdruckschablone (5) belichtbar ist. Dabei ist der Belichtungskopf (9) relativ zur Siebdruckschablone (5) bewegbar. Die Lichtquelle besteht vorzugsweise aus einer Anzahl n gleichartiger, im Wellenlängenbereich von 300 - 450 nm arbeitender Laserdioden, wobei jeweils Gruppen von Laserdioden in einem Modul (12) angeordnet sind. An der Belichtungseinheit sind in der Regel mehrere derartiger Module (12) vorhanden. Die Laserdioden sind von den Signalen der Signalquelle ansteuerbar. Die Lichtsignale der Laserdioden werden über eine gleiche Anzahl n lichtleitender Fasern zu einer Rasterplatte im Belichtungskopf (9) geführt. Der Lichtausgang der Rasterplatte wird zu einer im Wellenlängenbereich den Laserdioden angepassten Fokussieroptik (10) im Belichtungskopf (9) geleitet.

摘要翻译： 用于制造丝网印刷模板（5）的曝光装置具有保持器（4），用于丝网印刷模版（5）和包含至少一个，光束产生光源和曝光头的光学系统的曝光系统（9）。 此外，数字信号存在供给源（计算机），它与在一个方式的曝光系统中的连接，根据这些信号的所有的丝网印刷模版（5）能够暴露连通。 这里，曝光头（9）相对于所述丝网印刷模版（5）是可移动的。 光源优选由相同数目为n的，在波长范围300-450纳米工作的激光二极管，每个组的模块（12）中的激光二极管的布置。 几个这样的模块（12）通常在曝光单元上可用。 激光二极管由信号源的信号控制。 激光二极管的光信号被引导越过导光纤维的相等数目n在曝光头（9）的栅格板。 屏幕板的光输出被传导到在曝光头（9）适于将所述波长范围内的激光二极管的聚焦光学器件（10）。

公开(公告)号：WO2007096094A3

公开(公告)日：2007-08-30

申请号：PCT/EP2007/001358

申请日：2007-02-16

申请人： KLEO MASCHINENBAU AG ,  OPOWER, Hans ,  SCHARL, Stefan

发明人： OPOWER, Hans ,  SCHARL, Stefan

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/12

摘要： Um eine Belichtungsanlage für Substratkörper (16), die auf einer Substratoberfläche eine fotosensitive Beschichtung (18) tragen, umfassend ein Maschinengestell (10), einen den Substratkörper tragenden Substratträger (12) mit einer Substratträgerfläche (19) und eine Belichtungseinrichtung (20) mit einer Optikeinheit (22), wobei die Optikeinheit und das Maschinengestell relativ zueinander in einer ersten Richtung und zweiten Richtung bewegbar sind, so dass durch diese Relativbewegung in der ersten Richtung und in der zweiten Richtung die fotosensitive Beschichtung belichtbar ist, derart zu verbessern, dass bei dieser trotz eines Substratkörpers mit sehr großer Ausdehnung in der ersten und der zweiten Richtung eine kompakte Bauweise möglich ist, wird vorgeschlagen, dass die Belichtungseinrichtung eine Führungstraverse (30) für mindestens einen die Optikeinheit tragenden Führungsschlitten (72, 74) der Belichtungseinrichtung aufweist, dass der Führungsschlitten an der Führungstraverse in der ersten Richtung bewegbar geführt ist und dass die Führungstraverse am Maschinengestell in Richtung der zweiten Richtung bewegbar angeordnet ist.

公开(公告)号：WO0052528A3

公开(公告)日：2001-01-11

申请号：PCT/DE0000708

申请日：2000-03-01

申请人： FORSCHUNGSZENTRUM JUELICH GMBH ,  MEISSNER DIETER

发明人： MEISSNER DIETER

IPC分类号： G03F1/00 ,  G03F1/20 ,  G03F1/50 ,  G03F1/54 ,  G03F7/12 ,  G03F1/14 ,  G03F1/08 ,  G03F1/16

CPC分类号： G03F1/20 ,  G03F1/50 ,  G03F1/54 ,  G03F7/12

摘要： The invention relates to a mask, a method for the production of said mask, the mask itself and advantageous applications of the inventive mask. The method for the production of the mask comprises the following steps: using a monograin membrane consisting of light-sensitive particles; wherein said light-sensitive particles behave in such a way that they are resistant to light in a first state and not resistant to light in a second state; passing the monograin membrane from the light resistant to the non-light resistant state; exposing the membrane in accordance with a given structure; in accordance with said exposure, the particles fall off from the monograin membrane or dissolve; subsequently passing the membrane from the light-sensitive to the light insensitive state. The mask consequently consists of a monograin membrane with defined structures. Said mask can be used, for instance, in a silk screen or lithographic printing process or in the production of electrodes. One advantage of said process is that it is not necessary to always use photosensitive resist.

摘要翻译： 本发明涉及的掩模，用于制造掩模，这种掩模以及有利用途的方法。 用于制造掩模的方法包括以下步骤：一个单粒膜被使用，其由光敏颗粒，所述光敏颗粒是那些不表现抗性在第一状态下耐光以及在第二状态下的光; 单粒子膜由在耐非光条件耐光制成; 然后将膜按照预定图案进行曝光; 对应于曝光，颗粒掉出单粒膜或溶解的; 然后将膜从感光状态带到光不敏感状态。 因此，该掩模由具有定义的结构的单粒子膜的。 它用于例如丝网或用于光刻工艺，或用于生产电极。 在此过程中必须是有利的感光光致抗蚀剂的任何情况下不被使用。

公开(公告)号：WO00027644A1

公开(公告)日：2000-05-18

申请号：PCT/US1999/025027

申请日：1999-10-27

IPC分类号： B41C1/18 ,  B41M1/00 ,  B41N1/16 ,  B41N10/00 ,  G03F7/12 ,  G03F7/24 ,  B41L15/10

CPC分类号： B41N10/00 ,  B41C1/184 ,  B41M1/00 ,  B41N1/16 ,  G03F7/12 ,  G03F7/24

摘要： In a printing method, an electrically encoded image to be transferred to a printing substrate during a printing process is provided in an electronic memory (34). A flexible carrier web (18) is attached under tension to a cutting cylinder with an adjustable diameter. The cutting cylinder is adjusted to have a diameter which matches the diameter of a blanket or printing cylinder (12) of a printing machine. The length of the cutting cylinder (78) is at least as great as the length of the blanket or printing cylinder (12). The carrier web (18) is cut automatically in accordance with the electrically encoded image after attachment of the carrier web (18) to the adjusted cutting cylinder (78).

摘要翻译： 在打印方法中，在电子存储器（34）中提供在打印处理期间要传送到打印基板的电编码图像。 柔性载体网（18）在张力下连接到具有可调直径的切割滚筒。 切割圆筒被调节成具有与印刷机的橡皮布或印刷滚筒（12）的直径相匹配的直径。 切割滚筒（78）的长度至少与橡皮布或印刷滚筒（12）的长度一样大。 在将承载网（18）附接到经调整的切割滚筒（78）之后，根据电编码图像自动切割载体网（18）。

公开(公告)号：WO99059031A1

公开(公告)日：1999-11-18

申请号：PCT/US1999/006055

申请日：1999-03-19

IPC分类号： G03F7/16 ,  B05C11/02 ,  B05D3/00 ,  G03F3/10 ,  G03F7/12

CPC分类号： B05C11/025 ,  G03F3/10

摘要： The invention relates to an apparatus and a method of using the apparatus for applying a substantially uniform coating of solution onto a substrate. The apparatus includes a substrate support having a compressible surface. Coating is performed using a meyer rod. Uniform force is applied to the meyer rod using a weight placed on top of the meyer rod.

摘要翻译： 本发明涉及使用该装置的装置和方法，该装置用于将基本上均匀的溶液涂层施加到基底上。 该装置包括具有可压缩表面的基板支撑件。 涂层使用米尔棒进行。 使用放在米尔杆顶部的重物将均匀的力施加到米尔杆上。

公开(公告)号：WO98037459A1

公开(公告)日：1998-08-27

申请号：PCT/KR1998/000034

申请日：1998-02-20

IPC分类号： B41C1/14 ,  G03F7/12 ,  B41N1/24

CPC分类号： G03F7/12 ,  B41C1/142

摘要： A method of manufacturing a metal plate for a screen printing is opened. The method comprises the steps of forming an insulating layer (15) on a squeeze surface after pretreating the squeeze surface of a screen mesh (10) which is formed to be woven with a weaving material; depositing a metal ion equivalently on an opposite surface of the insulating layer; applying a light sensible material on a metal membrane which is formed to be deposited equivalently; putting a photomask on which a variety of patterns is prescribed on an upper portion of the light sensible material to expose the photomask into a light; eroding a rest portion except for the pattern portion to form a pocket portion of viscous fluid for printing after developing the photomask which is exposed into the light; and removing the photomask from the metal membrane.

摘要翻译： 打开丝网印刷用金属板的制造方法。 该方法包括以下步骤：在用织造材料编织的筛网（10）的挤压表面进行预处理之后，在挤压表面上形成绝缘层（15） 在绝缘层的相对表面上等价地沉积金属离子; 将光敏材料施加在形成为等效沉积的金属膜上; 在光敏材料的上部放置各种图案的光掩模，以将光掩模曝光; 侵蚀除了图案部分之外的休息部分，以在曝光到光中的光掩模显影之后形成用于印刷的粘性流体的袋部分; 并从金属膜上去除光掩模。

公开(公告)号：WO2021018379A1

公开(公告)日：2021-02-04

申请号：PCT/EP2019/070387

申请日：2019-07-29

申请人： MICROSOFT TECHNOLOGY LICENSING LLC ,  JEPPESEN, Peter Krogstrup

发明人： JEPPESEN, Peter Krogstrup ,  KOSTAMO, Pasi ,  STANKEVIC, Tomas

IPC分类号： C23C14/04 ,  C23C16/04 ,  G03F1/20 ,  G03F7/12 ,  H01L39/22 ,  H01L39/24

摘要： A method for collimating a beam of material being deposited on a substrate at a deposition area of the substrate is disclosed. The substrate is masked with a stencil mask located at a mask distance from the substrate, the mask distance being the distance between a top face of the substrate and an outer face of the mask facing the substrate. The beam is projected from a source cell located at a source distance from the mask, the source distance being the distance between the source cell and an outer face of the mask facing the source cell. The stencil mask comprises two mask layers separated by a layer separation distance which is great than zero. Each mask layer comprises a slit, the slits of the two layers having a width being aligned in a plane of the substrate.

公开(公告)号：WO2019139425A1

公开(公告)日：2019-07-18

申请号：PCT/KR2019/000505

申请日：2019-01-11

申请人： (주)이노페이스 ,  (주)에스엔텍

发明人： 이준성 ,  박준석 ,  안경준

IPC分类号： G03F7/12 ,  H01L31/0224 ,  H01L31/18 ,  G03F7/20 ,  H01L21/033

摘要： 본 발명에 따른 태양전지의 후면전극용 스텐실 마스크는 여러 개의 후면전극 개구부를 포함하며 구성되며, 각 후면전극 개구부는 메인 개구부, 및 도전성 페이스트가 완만하게 퍼질 수 있도록 하는 복수 개의 서브 개구부를 포함하여 이루어진다. 이때 서브 개구부는 메인 개구부의 양 측면을 따라 메인 개구부와 이격된 위치에 나란히 형성된다. 서브 개구부들로 인하여 후면전극의 가장자리 주위가 완만하게 낮아지는 경사를 이루므로, 후면전계와의 중첩 부분이 윗 방향으로 돌출되지 않고 후면전극의 중심부와 유사한 높이를 이룬다. 이에 따라, 리본 부착 공정에서의 불량 발생율을 낮추고, 리본의 부착성을 향상시킬 수 있으며, 후면전극 인쇄를 위한 마스크의 내구성을 향상시켜 비용을 절감할 수 있다.