公开(公告)号：WO2021255201A2

公开(公告)日：2021-12-23

申请号：PCT/EP2021/066499

申请日：2021-06-17

申请人： CEMECON AG

发明人： KÖLKER, Werner ,  BOLZ, Stephan

IPC分类号： C23C14/06 ,  C23C14/34 ,  C23C14/35 ,  H01J37/32 ,  H01J37/34 ,  C23C14/0641 ,  C23C14/345 ,  C23C14/3485 ,  C23C14/3492 ,  H01J37/32706 ,  H01J37/3405 ,  H01J37/3438 ,  H01J37/3444 ,  H01J37/3467 ,  H01J37/3473

摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung (10) zum Aufbringen einer Schicht (64) auf einen Körper (60), (62) sowie einen beschichteten Körper (60). Der Körper (60), (62) wird in einer Vakuumkammer (12) angeordnet und Prozessgas zugeführt. Ein Plasma wird in der (10) Vakuumkammer (12) durch Betrieb einer Kathode (30) durch Anlegen einer Kathodenspannung VP mit Kathodenpulsen und Zerstäuben eines Targets (32) erzeugt. An den Körper (60), (62) wird eine Bias-Spannung VB angelegt, so dass Ladungsträger des Plasmas in Richtung des Körpers (60), (62) beschleunigt werden und sich auf dessen Oberfläche anlagern. Um gezielt günstige Eigenschaften der Beschichtung (64) zu erreichen, wird ein Zeitverlauf der Bias-Spannung VB während der Beschichtungsdauer D variiert. In der Beschichtung (64) des Körpers (60), (62) umfasst das Material der Schicht (64) Anteile eines Edelgases, dessen Konzentration in der Schicht (64) über die Schichtdicke variiert.