一种发光二极管及其制作方法
    1.
    发明申请

    公开(公告)号:WO2021128810A1

    公开(公告)日:2021-07-01

    申请号:PCT/CN2020/101184

    申请日:2020-07-10

    Abstract: 一种发光二极管及其制作方法,该发光二极管包括有复合浅量子阱,提高大电流密度下空穴的注入效率。通过第一界面调制层(321)减缓窄阱宽垒超晶格层(311)和窄阱窄垒超晶格层(312)的界面处的能带弯曲,及通过第二界面调制层(322)减缓窄阱窄垒超晶格层(312)和多量子阱发光层(400)的界面处的能带弯曲,降低由此引入的异质势垒高度,进而降低发光二极管的工作电压且提高发光二极管的发光效率。通过缺陷覆盖层(500)来覆盖填平多量子阱发光层(400)和复合浅量子阱上形成的V型缺陷,而有效地阻挡电流进入V型缺陷,从而有效减少V型缺陷所形成的漏电通道,使得空穴从非V型缺陷区域进入多量子阱发光层(400),增大空穴-电子复合几率,最终提高了发光二极管的可靠性和发光效率。

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