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公开(公告)号：WO2022220932A2
公开(公告)日：2022-10-20
申请号：PCT/US2022/017858
申请日：2022-02-25
IPC分类号： G21B1/05 , G21B1/11 , H05H1/04 , H05H1/06 , H05H1/24 , H05H1/46 , H05H3/02 , H01J37/30 , H01J37/32
摘要： Plasma generation systems and methods with enhanced electrode configurations are disclosed. The system can include a plasma confinement device extending along a Z-pinch axis and including an inner electrode having at least two inner electrode segments disposed successively axially, and an outer electrode including at least two outer electrode segments disposed successively axially. The outer electrode surrounds the inner electrode to define therebetween an acceleration region configured to contain a source plasma and extends forwardly beyond the inner electrode to define an assembly region adjacent the acceleration region. The system can also include a power supply unit including at least two power supplies, each of which configured to apply a voltage between a respective inner electrode segment and a respective outer electrode segment. The application of the voltages causes the source plasma to flow along the acceleration region and into the assembly region to be compressed into a Z-pinch plasma.
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公开(公告)号：WO2021152726A1
公开(公告)日：2021-08-05
申请号：PCT/JP2020/003186
申请日：2020-01-29
申请人： 株式会社日立ハイテク
IPC分类号： H01J37/30
摘要： 高い加工速度および広い加工領域と加工面の平滑性とを両立させることが可能なイオンミリング装置を提供する。イオンミリング装置は、非集束のイオンビームを照射する第１から第３のイオンガン１～３と、試料６を保持する試料台７とを有し、第３のイオンガン３のイオンビーム中心１１３が、試料表面の垂線６０と、マスク５と試料６との境界であるマスク端部５１とで張られる第１平面に含まれ、かつ第１のイオンガン１のイオンビーム中心１１１及び第２のイオンガン２のイオンビーム中心１１２が第２平面に含まれ、第２平面は、第１平面に対してマスク側に傾斜され、第１平面と第２平面とのなす角は０°を超えて１０°以下であり、第１から第３のイオンガンの照射するイオンビームが試料の表面において重なり合う領域において試料の加工面が形成される。
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公开(公告)号：WO2021130842A1
公开(公告)日：2021-07-01
申请号：PCT/JP2019/050524
申请日：2019-12-24
申请人： 株式会社日立ハイテク
摘要： イオン分布の再現性を高めることができるイオンミリング装置を提供する。イオンミリング装置は、イオン源（１０１）と、イオン源（１０１）から非集束のイオンビームを照射することにより加工される試料が載置される試料ステージ（１０２）と、イオン源（１０１）と試料ステージ（１０２）との間に位置する軌道に沿って、イオンビーム電流測定部材（１０５）を保持した測定部材保持部（１０６）を移動させる駆動ユニット（１０７）と、軌道の近傍に配置される電極（１１２）とを有し、電極（１１２）に所定の正電圧を印加し、イオン源（１０１）から第１の照射条件でイオンビームが出力された状態で、駆動ユニット（１０７）によりイオンビーム電流測定部材（１０５）をイオンビームの照射範囲において移動させ、イオンビームがイオンビーム電流測定部材（１０５）に照射されることにより流れるイオンビーム電流を測定する。
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公开(公告)号：WO2021108375A1
公开(公告)日：2021-06-03
申请号：PCT/US2020/061963
申请日：2020-11-24
IPC分类号： A61N5/10 , G01N23/00 , G01N23/225 , G21K5/04 , H01J37/244 , H01J37/30
摘要： The present invention relates to linear, straight through electron beam machines that incorporate a rotary coupling system to easily attach and manually or automatically rotate field defining members such as applicators and/or shields to the electron beam machines. The rotary coupling systems also incorporate functionality for using different kinds of optical signals to automatically provide illumination, reference mark projection, and/or distance detection. The optical signals generated downstream from heavy collimator components and are transmitted along the central axis of the field defining elements so that function and accuracy are maintained as the components rotate.
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公开(公告)号：WO2021071357A1
公开(公告)日：2021-04-15
申请号：PCT/NL2020/050620
申请日：2020-10-08
发明人： KRUIT, Pieter
摘要： The invention relates to a device for generating a plurality of charged particle beamlets, and an inspection, imaging or processing apparatus and method for using the same. The device subsequently comprises a charged particle source, a first converging member, a lens array comprising a plurality of lenslets, wherein the lens array is configured for providing a plurality of separate focused charged particle beamlets, wherein each lenslet is configured for focusing one charged particle beamlet of said plurality of charged particle beamlets, a diverging member for refracting the plurality of charged particle beamlets, and a second converging member for refracting the plurality of charged particle beamlets. The diverging member is configured to provide a negative chromatic dispersion, which allows to at least partially compensate the chromatic dispersion of the first converging lens.
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公开(公告)号：WO2021038650A1
公开(公告)日：2021-03-04
申请号：PCT/JP2019/033147
申请日：2019-08-23
申请人： 株式会社日立ハイテク
摘要： リデポジション膜による短絡の発生を抑制して、全固体電池の断面ミリングが可能なイオンミリング装置を提供する。イオンミリング装置は、試料８を載置する試料ステージ５と、試料に向けて非集束のイオンビーム４を放出するイオン源１と、試料ステージに、イオンビームのイオンビーム中心Ｂ0と直交するように設定されるスイング軸Ｓ0を中心としたスイング動作と、イオンビーム中心を含みスイング軸と垂直に交わる平面（ＹＺ平面）と試料ステージの試料載置面との交線に沿ったスライド動作とを行わせるステージコントローラ６とを備え、第１モード動作において、試料ステージにスイング動作を行わせ、イオン源にイオンビームを放出させて試料をミリングし、第２モード動作において、試料ステージにスライド動作を行わせ、イオン源にイオンビームを放出させて第１モード動作において試料に再付着したスパッタ粒子を除去する。
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公开(公告)号：WO2019244331A1
公开(公告)日：2019-12-26
申请号：PCT/JP2018/023782
申请日：2018-06-22
申请人： 株式会社日立ハイテクノロジーズ
摘要： イミド結合を有する材料を含む試料に対しても、高速にミリング加工可能なイオンミリング装置を実現する。このため、イオンミリング装置は、試料３を真空雰囲気に保持する真空チャンバー６と、試料に非集束のイオンビーム２を照射するイオン銃１と、水溶性のイオン液体と水との混合溶液１３を蓄える気化容器１７と、混合溶液を気化させた水蒸気を、イオンビームによる試料の加工面の近傍に供給するノズル１１，１２とを有する。
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公开(公告)号：WO2018175127A2
公开(公告)日：2018-09-27
申请号：PCT/US2018/021908
申请日：2018-03-12
发明人： SINCLAIR, Frank , TIEGER, Daniel , BECKER, Klaur
IPC分类号： H01J37/317 , H01J37/30
摘要： An ion implantation system may include an ion source to generate an ion beam, a substrate stage disposed downstream of the ion source; and a deceleration stage including a component to deflect the ion beam, where the deceleration stage is disposed between the ion source and substrate stage. The ion implantation system may further include a hydrogen source to provide hydrogen gas to the deceleration stage, wherein energetic neutrals generated from the ion beam are not scattered to the substrate stage.
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公开(公告)号：WO2018011946A1
公开(公告)日：2018-01-18
申请号：PCT/JP2016/070846
申请日：2016-07-14
申请人： 株式会社日立ハイテクノロジーズ
IPC分类号： H01J37/30 , H01J27/04 , H01J37/08 , H01J37/12 , H01J37/305
摘要： ビーム成形電極の汚染を抑制可能なイオンミリング装置を提供するために、イオンビームを成形するビーム成形電極を内包するイオンガン（１０１）と、イオンビーム（１０２）の照射により加工される試料（１０６）を固定する試料ホルダ（１０７）と、試料（１０６）の一部をイオンビーム（１０２）から遮蔽するマスク（１１０）と、イオンガン（１０１）を制御するイオンガン制御部（１０３）と、を備えたイオンミリング装置とする。
摘要翻译： 为了提供在
离子铣削能够抑制光束成形电极，离子枪（101）的污染用于容纳光束整形电极用于成形离子束装置中，所述离子束的照射（102） 用于控制所述样本保持器，用于固定样品（106）离子枪控制单元进行处理（107），掩模（110），用于屏蔽从离子束（102），所述离子枪（101）的样本（106）的一部分通过 （103），其是离子铣削装置。
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公开(公告)号：WO2017155495A1
公开(公告)日：2017-09-14
申请号：PCT/UA2017/000034
申请日：2017-04-05
IPC分类号： H01J37/06 , H01J37/065 , H01J37/30 , H01J37/305 , H01J29/48
CPC分类号： H01J29/488 , H01J29/04 , H01J29/48 , H01J29/82 , H01J37/065 , H01J37/305 , H01J2229/481 , H01J2237/152
摘要： An electron beam projector with a linear thermal cathode (7) for electron beam heating consists of a beam guide (1) which comprises a deflecting electromagnetic system (2) and accommodates an accelerating anode (3) fixed on it by a posts (10), where anode is connected by a high-voltage insulators (4) through a cathode plate (5) to a cathode assembly (6), that includes the linear thermal cathode (7) fastened in a cathode holders (8), and a focusing electrode (9). The accelerating anode (3) comprises a plate (11) rigidly fastened to it for hermetical separation of the cathode (7) and the beam guide (1) parts of the projector, wherein the common optical axis of a cathode assembly (6) and the accelerating anode (3) is deflected from a beam guide optical axis by an angle a that is equal to 10÷30°.
摘要翻译： 具有用于电子束加热的线性热阴极（7）的电子束投影仪由包括偏转电磁系统（2）的光束导向器（1）组成，并且容纳固定的加速阳极（3） （10），其中阳极通过高压绝缘体（4）通过阴极板（5）连接到阴极组件（6），所述阴极组件包括固定在阴极中的线性热阴极（7） 支架（8）和聚焦电极（9）。 加速阳极（3）包括刚性固定在其上的板（11），用于阴极（7）和投影仪的光束导向器（1）部分的气密分离，其中阴极组件（6）和 加速阳极（3）从光束引导光轴偏转角度α，该角度等于10°和30°之间的角度α。
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