公开(公告)号：WO2023090286A1

公开(公告)日：2023-05-25

申请号：PCT/JP2022/042219

申请日：2022-11-14

Applicant: 大阪有機化学工業株式会社

Inventor： 竹内　祐太朗 ,  阿波　茂樹

IPC: G03F7/038 ,  C08F290/12 ,  G03F7/004 ,  G09F9/30

Abstract: 本発明は、耐キズ性に優れる硬化物を形成できる感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。また本発明は、前記特性に加えて低温硬化性及びフォトリソ性に優れる感光性樹脂組成物、前記感光性樹脂組成物から得られる硬化物、及び前記硬化物を含む画像表示装置を提供することを目的とする。本発明の感光性樹脂組成物は、下記一般式（１）で表される繰り返し構造単位Ｘを１種以上含むアルカリ可溶性樹脂、及び架橋剤を含む。　 （式中、Ｒ1は水素又はメチル基であり、Ｒ2は炭素数が１以上の連結基であり、Ｒ3は前記連結基の炭素原子に結合する下記一般式（２）で表される有機基又はヒドロキシ基であり、Ｒ4は前記連結基の炭素原子に結合するヒドロキシ基又は有機基である。）　 （式中、Ｒ5は母体の炭素数が２～７の炭化水素基、母体の炭素数が３～８であり、かつヘテロ原子を含む有機基、又は母体の炭素数が２～７であり、かつカルボキシ基を有する有機基である。）

公开(公告)号：WO2023090129A1

公开(公告)日：2023-05-25

申请号：PCT/JP2022/040451

申请日：2022-10-28

Applicant: ＪＳＲ株式会社

Inventor： 阿部　祐大 ,  根本　龍一 ,  岡嵜　聡司

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20

Abstract: 酸解離性基を有する重合体と、式（１）で表される化合物と、を含有する感放射線性組成物とする。式（１）中、Ｒ１は、芳香環構造を有する炭素数５～２０の１価の基である。ただし、Ｒ１は芳香環構造でＮ－に結合している。Ｒ２は、炭素数１～２０の１価の有機基である。Ｍｎ＋は、ｎ価のカチオンである。ｎは１又は２である。

公开(公告)号：WO2023086682A1

公开(公告)日：2023-05-19

申请号：PCT/US2022/050003

申请日：2022-11-15

Applicant: THE RESEARCH FOUNDATION FOR THE STATE UNIVERSITY OF NEW YORK

Inventor： BRAINARD, Robert ,  ALI, Munsaf

IPC: G03F7/004 ,  C01B19/02 ,  C07C395/00 ,  C07F9/90 ,  G03F7/16 ,  G03F7/32

Abstract: The present disclosure relates to compounds and use thereof as lithographic compositions such as EUV photoresist films. More particularly, embodiments of the disclosure provide lithography compositions and methods of depositing radiation sensitive films, which can be used for patterning applications with UV light, EUV light or electron-beam radiation to form high resolution patterns with low line width roughness. In embodiments, novel ligands are provided for forming radiation sensitive film compositions.

公开(公告)号：WO2023085295A1

公开(公告)日：2023-05-19

申请号：PCT/JP2022/041632

申请日：2022-11-09

Applicant: 日産化学株式会社

Inventor： 緒方　裕斗 ,  田村　護

IPC: G03F7/11 ,  C08G59/26 ,  C08G59/40 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

Abstract: 膜形成成分及び溶剤を含有し、　前記膜形成成分が、芳香族環を含有する第１構造及び窒素原子を含有する第２構造の少なくともいずれかを含む特定構造含有成分を、２０質量％以上含み、　前記第１構造が、前記芳香族環に直結した下記式（１）で表される基を含み、　前記第２構造が、前記窒素原子に直結した下記式（１）で表される基を含む、　ＥＢ又はＥＵＶリソグラフィー用レジスト下層膜形成用組成物。 （式（１）中、Ｒ１は、炭素原子数１～６のアルキレン基を表し、Ｒ２は、水素原子、炭素原子数１～６のアルキル基、又は総炭素原子数２～１０のアルコキシアルキル基を表す。＊は、結合手を表す。）

公开(公告)号：WO2023080176A1

公开(公告)日：2023-05-11

申请号：PCT/JP2022/041072

申请日：2022-11-02

Applicant: 凸版印刷株式会社

Inventor： 廣田　徹也 ,  前田　忠俊

IPC: G02B5/22 ,  G02B5/20 ,  G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  G03F7/031

Abstract: 赤外光パスフィルター用感光性着色組成物は、着色剤、重合性化合物、光重合開始剤、および、重合禁止剤を含む。重合性化合物は、２個以上の官能基を有する第１（メタ）アクリレートを含み、２個以上の官能基のうちの少なくとも１つはアミノ基である。光重合開始剤の質量に対する第１（メタ）アクリレートの質量の百分率が、５０％以上５００％以下である。光重合開始剤の質量に対する重合禁止剤の質量の百分率が、３％以上３０％以下である。

公开(公告)号：WO2023079622A1

公开(公告)日：2023-05-11

申请号：PCT/JP2021/040575

申请日：2021-11-04

Applicant: コニカミノルタ株式会社

Inventor： 服部　貴宗 ,  大野　香織

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/075 ,  C09D11/32 ,  C09D11/38 ,  H01L33/56 ,  H01L33/60 ,  G09F9/30 ,  H01L27/32 ,  H05B33/22

Abstract: 本発明の課題は、輝度を低下させない隔壁をＬＥＤチップ間に低ダメージで形成することができる隔壁形成用インクジェットインク、隔壁形成用インクジェットインクセット、及びそれを用いたＬＥＤデバイスの製造方法を提供することである。　本発明の隔壁形成用インクジェットインクは、ＬＥＤデバイスのＬＥＤチップ間に隔壁を形成するための隔壁形成用インクジェットインクであって、光重合性組成物と、色材とを含有し、標準沸点が２５０℃以下である溶剤の含有量が、２５％以下であることを特徴とする。

公开(公告)号：WO2023070817A1

公开(公告)日：2023-05-04

申请号：PCT/CN2021/134376

申请日：2021-11-30

Applicant: 上海新阳半导体材料股份有限公司 ,  上海芯刻微材料技术有限责任公司

Inventor： 王溯 ,  方书农 ,  徐森 ,  林逸鸣

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/027 ,  H01L21/027

Abstract: 一种树脂及含其的ArF干法光刻胶组合物和应用。该树脂由如下以重量份数计的单体聚合得到：其由如下重量份数计的单体聚合得到：40-47.5份的单体(A)、0.5-5份的单体(B)、0.25-2.5份的单体(C)和0.25-2.5份的单体(D)。含有该树脂的光刻胶具有分辨率高、灵敏度高和线宽粗糙度低的优点。

公开(公告)号：WO2023063203A1

公开(公告)日：2023-04-20

申请号：PCT/JP2022/037395

申请日：2022-10-06

Applicant: 東京応化工業株式会社

Inventor： 加藤　広樹 ,  石井　秀一 ,  藤波　哲郎

IPC: C07C309/12 ,  C07C309/17 ,  C07C381/12 ,  C08F12/30 ,  C08F20/38 ,  C08F112/14 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20

Abstract: 露光により酸を発生し、かつ、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化するレジスト組成物であって、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する樹脂成分（Ａ１）を含有し、前記樹脂成分（Ａ１）は、下記一般式（ａ０）で表される化合物から誘導される構成単位（ａ０）を有する、レジスト組成物（式中、Ｗは重合性基である。Ａｒは、芳香族炭化水素基である。－ＯＨは、ヒドロキシ基である。Ｌａ０は、２価の連結基である。Ｙａ０は、単結合又は２価の連結基である。Ｒａ０１及びＲａ０２は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又はフッ素化アルキル基である。ｎ０は、１～４の整数である。ｍは１以上の整数であって、Ｍｍ＋はｍ価の有機カチオンである）。

公开(公告)号：WO2023058600A1

公开(公告)日：2023-04-13

申请号：PCT/JP2022/036969

申请日：2022-10-03

Applicant: 株式会社レゾナック

Inventor： 渡邉　祐作 ,  武田　明子 ,  成田　真生 ,  小野　敬司

IPC: G03F7/004 ,  B32B27/00 ,  G03F7/027 ,  G03F7/033

Abstract: バインダーポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤と、テトラゾール化合物と、を含有し、バインダーポリマーにおけるスチレン化合物の単量体単位の含有量が３０質量％を超え、テトラゾール化合物の含有量がバインダーポリマー及び光重合性化合物の合計１００質量部に対して０．０１質量部以上である、感光性樹脂組成物。

公开(公告)号：WO2023047992A1

公开(公告)日：2023-03-30

申请号：PCT/JP2022/033959

申请日：2022-09-09

Applicant: 富士フイルム株式会社

Inventor： 楜澤　佑真 ,  白川　三千紘 ,  後藤　研由 ,  石原　英幸

IPC: G03F7/039 ,  C08F212/06 ,  C08F220/10 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/20

Abstract: 本発明は、特定の一般式（１）で表される繰り返し単位Ａと、特定の一般式（２）で表される繰り返し単位Ｂと、特定の一般式（３）で表される繰り返し単位Ｃとを含み、酸の作用により極性が増大し、露光により主鎖が切断される樹脂と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、を含む感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いた、感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法を提供する。