公开(公告)号：WO2022125388A1

公开(公告)日：2022-06-16

申请号：PCT/US2021/061751

申请日：2021-12-03

Applicant: LAM RESEARCH CORPORATION [US]/[US]

Inventor： DICTUS, Dries ,  WU, Chenghao ,  HANSEN, Eric Calvin ,  WEIDMAN, Timothy William

IPC: G03F7/36 ,  G03F7/16 ,  G03F7/004 ,  C09K13/06 ,  C09K13/08

Abstract: Development of resists are useful, for example, to form a patterning mask in the context of high-resolution patterning. Development can be accomplished using an organic vapor such as a carboxylic acid. In some implementations, the organic vapor is trifluoroacetic acid. In some implementations, the organic vapor is hexafluoro-acetylacetone. A metal-containing resist film such as an EUV-sensitive organo-metal oxide may be deposited on a semiconductor substrate using a dry or wet deposition technique. The metal-containing resist film on the semiconductor substrate may be developed using the organic vapor, or residue of metal-containing resist material formed on surfaces of a process chamber may be removed using the organic vapor.

公开(公告)号：WO2022016124A1

公开(公告)日：2022-01-20

申请号：PCT/US2021/042104

申请日：2021-07-16

Applicant: LAM RESEARCH CORPORATION

Inventor： HANSEN, Eric, Calvin ,  WU, Chenghao ,  WEIDMAN, Timothy, William

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/16 ,  G03F7/20 ,  G03F7/36 ,  H01L21/027 ,  H01L21/67

Abstract: The present disclosure relates to a film formed with a tantalum-based precursor, as well as methods for forming and employing such films. The film can be employed as a photopatternable film or a radiation-sensitive film. In non-limiting embodiments, the radiation can include extreme ultraviolet (EUV) or deep ultraviolet (DUV) radiation.

公开(公告)号：WO2014148548A1

公开(公告)日：2014-09-25

申请号：PCT/JP2014/057518

申请日：2014-03-19

Applicant: 富士フイルム株式会社

Inventor： ▲濱▼田　和博

IPC: B41N1/12 ,  B41C1/05 ,  G03F7/36

CPC classification number: B41C1/05 ,  B41C2210/24 ,  B41N1/12

Abstract: 　レーザー彫刻時に発生する彫刻カスのリンス性に優れ、得られる版の各種インキに対するインキ耐性に優れるレーザー彫刻用樹脂組成物、上記レーザー彫刻用樹脂組成物を用いたフレキソ印刷版原版及びその製造方法、並びに、フレキソ印刷版及びその製版方法を提供することを目的とする。　本発明のレーザー彫刻用樹脂組成物は、（成分Ａ）付加重合により得られた熱可塑性エラストマーと、（成分Ｂ）重合性化合物と、（成分Ｃ）重合開始剤と、を含有し、成分Ａが、親水性基を有するモノマー単位を有し、前記モノマー単位の含有量が、成分Ａの全モノマー単位に対し、１～５０モル％であることを特徴とする。

Abstract translation: 本发明的目的是提供：一种用于激光雕刻的树脂组合物，其对于在激光雕刻期间产生的雕刻粉尘具有优异的漂洗性能，并且提供了对各种油墨具有优异的耐油墨性的印刷版; 使用该树脂组合物进行激光雕刻的柔性版印刷原版; 一种生产该柔版印刷原版的方法; 柔版印刷版; 以及制造柔版印刷版的方法。 根据本发明的激光雕刻用树脂组合物的特征在于，含有通过加成聚合得到的热塑性弹性体（成分（A）），聚合性化合物（成分（B））和聚合引发剂（成分（C） ）。 该激光雕刻用树脂组合物的特征还在于，组分（A）具有亲水基团的单体单元，相对于组分（A）的所有单体单元，单体单元的含量为1-50摩尔％ 。

公开(公告)号：WO2013072350A1

公开(公告)日：2013-05-23

申请号：PCT/EP2012/072583

申请日：2012-11-14

Applicant: STICHTING DUTCH POLYMER INSTITUTE ,  BASTIAANSEN, Cornelis Wilhelmus Maria ,  PICOT, Olivier ,  PEIJS, Antonius Andreas Johannes Maria ,  DAI, Mian

Inventor： BASTIAANSEN, Cornelis Wilhelmus Maria ,  PICOT, Olivier ,  PEIJS, Antonius Andreas Johannes Maria ,  DAI, Mian

IPC: G03F7/36 ,  G03F7/027 ,  G03F7/38

CPC classification number: G03F7/027 ,  G03F7/033 ,  G03F7/40

Abstract: The invention relates to a process for the preparation of a substrate coated with a relief structure comprising the steps of a) coating a substrate with a coating composition comprising a polymeric binder, a photoinitiator and a compound having at least two crosslinkable groups per molecule to form a coated substrate and b) exposing said coated substrated to a pulsed light while moving said coated substrate with respect to the pulsed light to obtain a substrate coated with a relief structure. The invention also relates to films, tapes and fibres obtained with said process and to use of these films, tapes and fibres in various applications.

Abstract translation: 本发明涉及一种制备涂有浮雕结构的基材的方法，包括以下步骤：a）用包含聚合物粘合剂，光引发剂和每分子具有至少两个可交联基团的化合物的涂料组合物涂覆基材以形成 涂覆的基底和b）使所述涂覆的基底部暴露于脉冲光，同时相对于脉冲光移动所述涂覆的基底，以获得涂覆有浮雕结构的基底。 本发明还涉及通过所述方法获得的膜，带和纤维以及在各种应用中使用这些膜，带和纤维。

公开(公告)号：WO2013067442A1

公开(公告)日：2013-05-10

申请号：PCT/US2012/063438

申请日：2012-11-02

Applicant: E. I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY

Inventor： ARNOLD, Carl Bernard ,  FOGGIN, Gary W.

IPC: G03F7/36 ,  B41C1/10

CPC classification number: G03F7/36 ,  B41C1/00 ,  G03F7/34

Abstract: A heating step is performed in a printing operation where a gas jet emitting from a nozzle assembly impinges the exterior surface of a printing plate. The gas impingement provides rapid and specific convective heat flux to the exterior surface of the printing plate.

Abstract translation: 在从喷嘴组件喷射的气体射流撞击印版的外表面的打印操作中进行加热步骤。 气体冲击为印版的外表面提供快速和特定的对流热通量。

公开(公告)号：WO2011051648A3

公开(公告)日：2011-05-05

申请号：PCT/GB2010/001923

申请日：2010-10-18

Applicant: THE UNIVERSITY OF SURREY ,  KEDDIE, Joseph ,  GEORGIADIS, Argyrios

Inventor： KEDDIE, Joseph ,  GEORGIADIS, Argyrios

IPC: G03F7/26 ,  G03F7/36 ,  B41C1/10

Abstract: A method of making a patterned dried polymer from a polymer solution or polymer dispersion, the method comprising the step of placing a mask above the polymer solution/dispersion so that there are exposed areas of polymer solution/dispersion and unexposed areas of polymer solution/dispersion, and irradiating the masked polymer solution/dispersion with infrared radiation.

公开(公告)号：WO2008025508A8

公开(公告)日：2009-05-22

申请号：PCT/EP2007007498

申请日：2007-08-28

Applicant: STICHTING DUTCH POLYMER INST ,  HERMANS KO ,  BASTIAANSEN CORNELIS WILHELMUS ,  BROER DIRK ,  PERELAER JOLKE

Inventor： HERMANS KO ,  BASTIAANSEN CORNELIS WILHELMUS ,  BROER DIRK ,  PERELAER JOLKE

IPC: G03F7/36

CPC classification number: G03F7/36 ,  G03F7/031

Abstract: The invention relates to a process for the preparation of a polymeric relief structure comprising the steps of coating a substrate with a coating composition comprising one or more radiation-sensitive ingredients, locally treating the coated substrate with electromagnetic radiation having a periodic or random radiation-intensity pattern, forming a latent image, and polymerizing and/or crosslinking the resulting coated substrate, wherein the coating composition comprises one or more radical scavengers in an amount sufficient to inhibit/retard substantial polymerization in the non-treated areas of the coated substrate, and low enough to allow polymerization and/or crosslinking in the treated areas in step c, with the proviso that the amount of oxygen present in the coating composition is not equal to the equilibrium amount of oxygen present when the coating composition is in contact with air.

Abstract translation: 本发明涉及一种制备聚合物浮雕结构的方法，包括以下步骤：用包含一种或多种辐射敏感成分的涂料组合物涂覆基材，用具有周期性或随机辐射强度的电磁辐射局部处理涂覆的基材 形成潜像，并且聚合和/或交联所得涂覆的基底，其中涂层组合物包含足以抑制/延迟涂覆的基底的未处理区域中的基本聚合的量的一种或多种自由基清除剂，以及 足够低以允许步骤c中处理区域的聚合和/或交联，条件是涂料组合物中存在的氧的量不等于当涂料组合物与空气接触时存在的氧的平衡量。

公开(公告)号：WO2006086441A3

公开(公告)日：2007-04-05

申请号：PCT/US2006004377

申请日：2006-02-08

Applicant: MACDERMID PRINTING SOLUTIONS

Inventor： MARKHART GARY T ,  VEST RYAN

IPC: B41C3/08 ,  B41C1/00 ,  G03C7/36 ,  G03F7/26 ,  G03F7/34 ,  G03F7/36

CPC classification number: G03F7/34 ,  G03F7/24 ,  G03F7/36 ,  G03F7/38

Abstract: An improved flexo processor and a method of using the improved flexo processor to increase the flexibility of both the type and the size of the flexographic printing element that may be processed. The novel thermal plate processor system is capable of processing both flat and round photosensitive printing elements with only minimal changes to the system. The thermal plate processor system may also include means for exposure and post-exposure/detack in the same system.

Abstract translation: 改进的柔性处理器和使用改进的柔印处理器以增加可处理的柔性版印刷元件的类型和尺寸的灵活性的方法。 新型热敏板处理器系统能够仅对系统进行最小的改变来处理平面和圆形光敏打印元件。 热板处理器系统还可以包括用于在相同系统中曝光和曝光/解除的装置。

公开(公告)号：WO2007032370A1

公开(公告)日：2007-03-22

申请号：PCT/JP2006/318127

申请日：2006-09-13

Applicant: 東京エレクトロン株式会社 ,  緒方 久仁恵 ,  富田 浩 ,  田中 道夫 ,  上村 良一

Inventor： 緒方 久仁恵 ,  富田 浩 ,  田中 道夫 ,  上村 良一

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/26 ,  G03F7/36

CPC classification number: G03F7/40

Abstract: 　パターン形成装置１は、レジスト液塗布処理後の基板Ｗを加熱処理する第一の加熱処理と、レジスト膜を所定のパターンに露光する露光処理と、露光後にレジスト膜内の化学反応を促進させる第二の加熱処理と、露光されたレジスト膜を現像する現像処理と、現像処理後に形成されたレジストパターンをマスクとして酸化膜を除去するエッチング処理とを一連の処理として実行するものであり、エッチング処理後に形成されたパターンの状態を測定検査する検査装置４００と、検査結果に基づいてエッチング処理後の基板Ｗのパターンの状態が基板面内で均一になるよう、第一の加熱処理及び／または第二の加熱処理での条件設定を行う制御部５００とを備える。

Abstract translation: 公开了一种图案形成装置（1），用于执行包括用于加热已经涂敷抗蚀剂液体的基板W的第一热处理，将抗蚀剂膜曝光成预定图案的曝光工序， 用于加速曝光后的抗蚀剂膜中的化学反应的热处理，用于显影曝光的抗蚀剂膜的显影处理以及通过使用在显影处理之后形成的抗蚀剂图案作为掩模去除氧化膜的蚀刻工艺。 该图案形成装置（1）包括用于测量在蚀刻处理之后形成的图案的状态的测试装置（400），以及用于设定第一热处理和/或第二热量中的条件的控制单元（500） 基于测量结果的处理，使得蚀刻工艺之后的衬底W的图案的面内状态变得均匀。

公开(公告)号：WO2007032369A1

公开(公告)日：2007-03-22

申请号：PCT/JP2006/318126

申请日：2006-09-13

Applicant: 東京エレクトロン株式会社 ,  田中 道夫 ,  篠塚 真一 ,  田所 真任 ,  緒方 久仁恵 ,  富田 浩 ,  上村 良一

Inventor： 田中 道夫 ,  篠塚 真一 ,  田所 真任 ,  緒方 久仁恵 ,  富田 浩 ,  上村 良一

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/26 ,  G03F7/36

CPC classification number: G03F7/40 ,  G03F7/38

Abstract: 　パターン形成装置１は、現像処理後に基板Ｗに形成されたレジストパターンのサイドウォールアングルＳＷＡを測定検査する検査装置４００と、前記現像処理後のレジストパターンのサイドウォールアングルＳＷＡの目標値と前記検査装置４００によるサイドウォールアングルＳＷＡの検査結果との差分に基づいて、前記現像処理後のサイドウォールアングルＳＷＡが前記目標値に近似するように、前記第一の加熱処理７１～７４または前記第二の加熱処理８４～８９での処理条件の設定を行う制御部５００とを備える。

Abstract translation: 图案形成装置（1）包括用于测量在显影处理之后形成在基板W上的抗蚀剂图案的侧壁角度SWA的测试装置（400）和用于设定处理条件的控制单元（500） 在第一热处理单元（71-74）或第二热处理单元（84-89）中，基于显影处理后的抗蚀剂图案的侧壁角度SWA的目标值与侧面的实际值之差 通过测试装置（400）测量的壁角度SWA，使得开发后的侧壁角度SWA接近目标值。