发明公开
- 专利标题: 集成电路结构
- 专利标题(英): Integrated circuit structure
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申请号: CN201010158589.X申请日: 2010-04-07
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公开(公告)号: CN102054811A公开(公告)日: 2011-05-11
- 发明人: 萧景文 , 吴俊毅 , 黄儒瑛 , 陈承先
- 申请人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 申请人地址: 中国台湾新竹市
- 专利权人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 当前专利权人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 当前专利权人地址: 中国台湾新竹市
- 代理机构: 北京市德恒律师事务所
- 代理商 陆鑫; 高雪琴
- 优先权: 61/256,090 2009.10.29 US; 12/619,468 2009.11.16 US
- 主分类号: H01L23/485
- IPC分类号: H01L23/485 ; H01L23/488
摘要:
本发明揭示一种集成电路结构,包括:一第一工作部件及一第二工作部件。第一工作部件包括一半导体基底以及位于半导体基底上方的一铜凸块。第二工作部件包括一接合垫。一焊料邻接于第一工作部件与第二工作部件之间,其中焊料将铜凸块电性连接至接合垫。焊料包括钯。本发明使焊料的可靠度有明显的改善。
公开/授权文献
- CN102054811B 集成电路结构 公开/授权日:2013-08-14
IPC分类: