Invention Publication
- Patent Title: 制造AlxGa(1-x)N单晶的方法、AlxGa(1-x)N单晶和光学透镜
- Patent Title (English): Process for production of AlxGa(1-x)n single crystal, AlxGa(1-x)n single crystal and optical lenses
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Application No.: CN200980125962.7Application Date: 2009-06-25
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Publication No.: CN102084040APublication Date: 2011-06-01
- Inventor: 荒川聪 , 樱田隆 , 山本喜之 , 佐藤一成 , 谷崎圭祐 , 中幡英章 , 水原奈保 , 宫永伦正
- Applicant: 住友电气工业株式会社
- Applicant Address: 日本大阪府
- Assignee: 住友电气工业株式会社
- Current Assignee: 住友电气工业株式会社
- Current Assignee Address: 日本大阪府
- Agency: 中原信达知识产权代理有限责任公司
- Agent 陈海涛; 樊卫民
- Priority: 2008-172562 2008.07.01 JP
- International Application: PCT/JP2009/061609 2009.06.25
- International Announcement: WO2010/001803 JA 2010.01.07
- Date entered country: 2011-01-04
- Main IPC: C30B29/38
- IPC: C30B29/38 ; C30B23/06 ; G02B1/02 ; G02B3/00

Abstract:
本发明提供一种通过以升华法生长AlxGa(1-x)N单晶(10)来制造AlxGa(1-x)N单晶(10)(其中0<x≤1)的方法,所述方法包括准备衬底的步骤、准备高纯度原料的步骤和升华原料以在所述衬底上生长所述AlxGa(1-x)N单晶(10)的步骤。所述AlxGa(1-x)N单晶(10)对波长为250至300nm的光显示2.4以上的折射率,并且对波长超过300nm并且短于350nm的光显示2.3以上的折射率,每个折射率都是在300K下测定的。
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