制造AlxGa(1-x)N单晶的方法、AlxGa(1-x)N单晶和光学透镜
Abstract:
本发明提供一种通过以升华法生长AlxGa(1-x)N单晶(10)来制造AlxGa(1-x)N单晶(10)(其中0<x≤1)的方法,所述方法包括准备衬底的步骤、准备高纯度原料的步骤和升华原料以在所述衬底上生长所述AlxGa(1-x)N单晶(10)的步骤。所述AlxGa(1-x)N单晶(10)对波长为250至300nm的光显示2.4以上的折射率,并且对波长超过300nm并且短于350nm的光显示2.3以上的折射率,每个折射率都是在300K下测定的。
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