发明授权
- 专利标题: 固定嵌入部、电极组件和等离子处理室
- 专利标题(英): Anchoring inserts, electrode assemblies, and plasma processing chambers
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申请号: CN201080012058.8申请日: 2010-03-15
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公开(公告)号: CN102356700B公开(公告)日: 2014-06-25
- 发明人: 兰德尔·哈丁 , 乔纳森·凯尔 , 杜安·莱特尔
- 申请人: 朗姆研究公司
- 申请人地址: 美国加利福尼亚州
- 专利权人: 朗姆研究公司
- 当前专利权人: 朗姆研究公司
- 当前专利权人地址: 美国加利福尼亚州
- 代理机构: 上海胜康律师事务所
- 代理商 李献忠
- 优先权: 12/409,984 2009.03.24 US
- 国际申请: PCT/US2010/027273 2010.03.15
- 国际公布: WO2010/111055 EN 2010.09.30
- 进入国家日期: 2011-09-15
- 主分类号: H05H1/34
- IPC分类号: H05H1/34 ; H01L21/3065 ; H01L21/203 ; H01L21/205 ; H01L21/265
摘要:
本发明提供一种硅基喷头电极,其中后部嵌入部设置在沿着电极的后部形成的后部凹陷内。后部嵌入部包括螺纹外径、螺纹内径和形成于螺纹内径内的工具啮合部。工具啮合部形成以使该后部嵌入部进一步包括一个或多个位于工具啮合部和螺纹外径之间的侧面防护部以防止与后部嵌入部的工具啮合部啮合的工具延伸超出该嵌入部的螺纹外径。进一步地,后部嵌入部的工具啮合部包括多个沿着后部嵌入部的转轴线布置的转矩接收槽。该转矩接收槽通过相对成对的转矩接收槽避免同轴转动的方式布置。
公开/授权文献
- CN102356700A 固定嵌入部、电极组件和等离子处理室 公开/授权日:2012-02-15
IPC分类: