集成电路封装及其形成方法
摘要:
本发明涉及集成电路封装及其形成方法,该方法包括:在晶片的衬底上方形成电连接件;然后形成聚合物层,其中,至少部分电连接件形成在该聚合物层中。执行第一锯切步骤从而在该聚合物层中形成沟槽。第一锯切步骤完成后,执行第二锯切步骤从而将晶片锯切成多个管芯。
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