发明授权
- 专利标题: 集成电路封装及其形成方法
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申请号: CN201210377778.5申请日: 2012-10-08
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公开(公告)号: CN103515314B公开(公告)日: 2016-03-30
- 发明人: 杜家玮 , 郭彦良 , 吕文雄 , 陈宪伟 , 蔡宗甫
- 申请人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 申请人地址: 中国台湾新竹
- 专利权人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 当前专利权人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 当前专利权人地址: 中国台湾新竹
- 代理机构: 北京德恒律治知识产权代理有限公司
- 代理商 章社杲; 孙征
- 优先权: 13/529,179 2012.06.21 US
- 主分类号: H01L21/78
- IPC分类号: H01L21/78 ; H01L21/56 ; H01L23/31
摘要:
本发明涉及集成电路封装及其形成方法,该方法包括:在晶片的衬底上方形成电连接件;然后形成聚合物层,其中,至少部分电连接件形成在该聚合物层中。执行第一锯切步骤从而在该聚合物层中形成沟槽。第一锯切步骤完成后,执行第二锯切步骤从而将晶片锯切成多个管芯。
公开/授权文献
- CN103515314A 集成电路封装及其形成方法 公开/授权日:2014-01-15
IPC分类: