Invention Grant
- Patent Title: 等离子体处理室中的气体进给嵌件及其实现方法
-
Application No.: CN201280058684.XApplication Date: 2012-11-15
-
Publication No.: CN104040028BPublication Date: 2016-07-06
- Inventor: 迈克尔·C·凯洛格 , 阿列克谢·马拉赫塔诺夫 , 拉金德尔·迪恩赛
- Applicant: 朗姆研究公司
- Applicant Address: 美国加利福尼亚州
- Assignee: 朗姆研究公司
- Current Assignee: 朗姆研究公司
- Current Assignee Address: 美国加利福尼亚州
- Agency: 上海胜康律师事务所
- Agent 李献忠
- Priority: 61/564,514 2011.11.29 US; 13/616,571 2012.09.14 US
- International Application: PCT/US2012/065212 2012.11.15
- International Announcement: WO2013/081843 EN 2013.06.06
- Date entered country: 2014-05-29
- Main IPC: C23F1/00
- IPC: C23F1/00

Abstract:
一种被构造为置于穿过电极的组件的通道中的气体进给嵌件包括第一嵌件端部,在第一嵌件端部中具有与所述气体进给嵌件的线性轴平行对齐的第一钻孔。所述气体进给嵌件进一步包括在所述第一嵌件端部对面的第二嵌件端部,所述第二嵌件端部中具有与所述气体进给嵌件的线性轴平行对齐的第二钻孔,所述气体进给嵌件还包括与第一钻孔和第二钻孔气流连通的钻孔到钻孔连通通道。所述钻孔到钻孔连通通道形成在所述气体进给嵌件的外表面中以便在气体从第一嵌件端部流动穿过钻孔到钻孔连通通道到第二嵌件端部时阻碍视线。
Public/Granted literature
- CN104040028A 等离子体处理室中的气体进给嵌件及其实现方法 Public/Granted day:2014-09-10
Information query