多区段等离子体约束环结构
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117795638A

    公开(公告)日:2024-03-29

    申请号:CN202280037825.3

    申请日:2022-05-16

    IPC分类号: H01J37/32

    摘要: 一种在等离子体处理室中使用的约束环包括上水平段、上竖直段、中间段、下竖直段、下水平段以及竖直延伸部。该上水平段在约束环的内上半径与第一外半径之间延伸。该中间段在约束环的内上半径与第二外半径之间延伸。该下水平段在内下半径与第二外半径之间延伸,而竖直延伸部从内下半径附近的下水平段朝下延伸。该上竖直段在内上半径附近的上水平段与中间段之间延伸,而该下竖直段在第二外半径附近的中间段与下水平段之间延伸。

    等离子体处理室中的气体进给嵌件及其实现方法

    公开(公告)号:CN104040028B

    公开(公告)日:2016-07-06

    申请号:CN201280058684.X

    申请日:2012-11-15

    IPC分类号: C23F1/00

    CPC分类号: H01J37/3244 Y10T29/49002

    摘要: 一种被构造为置于穿过电极的组件的通道中的气体进给嵌件包括第一嵌件端部,在第一嵌件端部中具有与所述气体进给嵌件的线性轴平行对齐的第一钻孔。所述气体进给嵌件进一步包括在所述第一嵌件端部对面的第二嵌件端部,所述第二嵌件端部中具有与所述气体进给嵌件的线性轴平行对齐的第二钻孔,所述气体进给嵌件还包括与第一钻孔和第二钻孔气流连通的钻孔到钻孔连通通道。所述钻孔到钻孔连通通道形成在所述气体进给嵌件的外表面中以便在气体从第一嵌件端部流动穿过钻孔到钻孔连通通道到第二嵌件端部时阻碍视线。

    等离子体处理室中的气体进给嵌件及其实现方法

    公开(公告)号:CN104040028A

    公开(公告)日:2014-09-10

    申请号:CN201280058684.X

    申请日:2012-11-15

    IPC分类号: C23F1/00

    CPC分类号: H01J37/3244 Y10T29/49002

    摘要: 一种被构造为置于穿过电极的组件的通道中的气体进给嵌件包括第一嵌件端部,在第一嵌件端部中具有与所述气体进给嵌件的线性轴平行对齐的第一钻孔。所述气体进给嵌件进一步包括在所述第一嵌件端部对面的第二嵌件端部,所述第二嵌件端部中具有与所述气体进给嵌件的线性轴平行对齐的第二钻孔,所述气体进给嵌件还包括与第一钻孔和第二钻孔气流连通的钻孔到钻孔连通通道。所述钻孔到钻孔连通通道形成在所述气体进给嵌件的外表面中以便在气体从第一嵌件端部流动穿过钻孔到钻孔连通通道到第二嵌件端部时阻碍视线。