Invention Grant
- Patent Title: 半导体器件
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Application No.: CN201610151295.1Application Date: 2016-03-16
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Publication No.: CN105990446BPublication Date: 2021-09-21
- Inventor: 刘庭均 , 朴世玩 , 成百民 , 严命允
- Applicant: 三星电子株式会社
- Applicant Address: 韩国京畿道
- Assignee: 三星电子株式会社
- Current Assignee: 三星电子株式会社
- Current Assignee Address: 韩国京畿道
- Agency: 北京天昊联合知识产权代理有限公司
- Agent 张帆; 崔卿虎
- Priority: 10-2015-0035702 20150316 KR
- Main IPC: H01L29/78
- IPC: H01L29/78 ; H01L29/423

Abstract:
本发明提供了一种半导体器件。该半导体器件可包括:位于衬底上的场绝缘膜;第一鳍式图案,其形成在衬底上,并且从场绝缘膜的上表面向上突出;以及栅电极,其与场绝缘膜上的第一鳍式图案交叉。所述栅电极可包括第一部分和第二部分,所述第一部分位于第一鳍式图案的一侧上并且包括栅电极的第一终端端部,所述第二部分位于第一鳍式图案的另一侧上。从衬底至所述第一部分的最下部的高度可以不同于从衬底至所述第二部分的最下部的高度。
Public/Granted literature
- CN105990446A 半导体器件 Public/Granted day:2016-10-05
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IPC分类: