发明公开
- 专利标题: 干涉式测量布置
- 专利标题(英): INTERFEROMETRIC MEASURING ARRANGEMENT
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申请号: CN201680029734.X申请日: 2016-05-18
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公开(公告)号: CN107646087A公开(公告)日: 2018-01-30
- 发明人: J.赫茨勒 , S.富克斯 , H-M.斯蒂潘 , K-H.舒斯特
- 申请人: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
- 申请人地址: 德国上科亨
- 专利权人: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
- 当前专利权人: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
- 当前专利权人地址: 德国上科亨
- 代理机构: 北京市柳沈律师事务所
- 代理商 邱军
- 优先权: 102015209490.1 2015.05.22 DE
- 国际申请: PCT/EP2016/000820 2016.05.18
- 国际公布: WO2016/188620 DE 2016.12.01
- 进入国家日期: 2017-11-22
- 主分类号: G01B11/24
- IPC分类号: G01B11/24 ; G01B9/02 ; G02B5/08 ; G03F7/20
摘要:
本发明涉及干涉式地确定被测装置(14)的表面(12)的形状的测量布置(10)。所述测量布置(10)包括提供输入波(18)的光源(16)和衍射光学元件(24)。衍射光学元件(24)适当地设计为从输入波(18)通过衍射分别产生测试波(26)和参考波(28),该测试波指向被测装置(14)并且具有至少部分适配于光学表面(12)的期望的形状的波前。所述测量布置(10)还包含用于参考波(28)的背向反射的反射光学元件(30)、以及在捕获平面(48)中捕获干涉图的捕获装置(36),该干涉图由与被测装置(14)相互作用后的测试波(26)和反射的参考波(28)分别在所述衍射光学元件(24)处的另一次衍射之后的叠加产生。本发明还涉及确定被测装置(14)的表面形状的相应方法。
公开/授权文献
- CN107646087B 干涉式测量布置 公开/授权日:2021-04-27