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    衍射光学元件和干涉测量方法
    2.
    发明授权
    衍射光学元件和干涉测量方法 有权

    公开(公告)号：CN104685317B

    公开(公告)日：2017-12-22

    申请号：CN201380051045.5

    申请日：2013-09-27

    申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司

    发明人： J.赫茨勒

    IPC分类号： G01B9/02 ,  G01M11/02 ,  G02B5/18

    CPC分类号： G01B11/2441 ,  G01B9/02028 ,  G01B9/02039 ,  G01B9/02057 ,  G01B9/02072 ,  G01M11/005 ,  G01M11/0271 ,  G02B5/1871 ,  G02B5/32 ,  Y10T29/49771

    摘要： 提供了一种衍射光学元件(50)，具有基板(52)和布置在其上的衍射结构图案(54)。所述衍射结构图案构造为将辐射至其上的平面或球面输入波(42)转换为：1)至少四个分离的输出波，其中，所述输出波中的至少一个是非球面波，所述输出波中的至少另外一个是球面波(58；70)，所述输出波中的至少另外两个分别是平面波(60)或球面波(72，74)；2)至少三个分离波，其中的至少一个是非球面波，另外两个是球面或平面波；3)至少三个球面波。衍射光学元件用在干涉测量方法和装置中，用于确定光学元件的光学表面的实际形状与预期形状的偏离。光学元件制造成具有光学表面，用上述方法和装置测量的光学表面与预期形状的偏离位于预定水平之下。

    测试干涉仪的衍射光学元件
    3.
    发明公开
    测试干涉仪的衍射光学元件 审中-实审

    公开(公告)号：CN114502914A

    公开(公告)日：2022-05-13

    申请号：CN202080068030.X

    申请日：2020-08-13

    申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司

    发明人： A.温克勒 ,  M.谢德 ,  H.M.斯蒂潘 ,  J.赫茨勒 ,  F.埃泽特

    IPC分类号： G01B11/06 ,  G01B11/24 ,  G01B9/02 ,  G01M11/00 ,  G01Q60/24 ,  G02B5/18 ,  G03H1/30

    摘要： 本发明涉及一种用于测量光学表面(102)的形状的测试干涉仪(100)的衍射光学元件(10)，其包括：衍射形状测量结构(16)，其布置在衍射光学元件的使用表面(14)上并且被配置为当衍射光学元件布置在测试干涉仪中时生成用于照射待测量的光学表面的测试波(122)；以及至少一个测试场(18)，被配置为用于测量定位在测试场内的测试结构的多个轮廓性质，轮廓性质表征相对于使用表面横向延伸的测试结构的轮廓并且包括测试结构的轮廓的侧翼角、测试结构的轮廓深度、和在测试结构的沟槽形状的轮廓的基部区域中出现的微沟槽的深度。测试场布置在使用表面的一个位置处而不是衍射形状测量结构，使得测试场由多个衍射形状测量结构围绕。

    干涉确定光学表面的形状的测量装置
    5.
    发明授权
    干涉确定光学表面的形状的测量装置 有权

    公开(公告)号：CN109716056B

    公开(公告)日：2021-05-25

    申请号：CN201780054763.6

    申请日：2017-07-19

    申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司

    发明人： J.赫茨勒

    IPC分类号： G01B9/02

    摘要： 干涉确定测试件(14)的光学表面(12)的形状的测量装置(10)包括：产生照明波(34)的照明模块(16)，干涉仪(18)，该干涉仪(18)配置为将照明波分裂成参考波(52)和被指引到光学表面上的测试波(50)，两束波关于彼此倾斜使得当将它们叠加在干涉仪的检测平面(62)中时产生多个条纹干涉图案(66)。照明模块具有在检测平面的傅里叶平面中布置的光瞳平面(28)，并且照明模块配置为产生照明波使得光瞳平面中的照明波的强度分布包括一个或多个空间上隔离、连续的表面区域(38)，该表面区域(38)配置为使得具有与表面区域或表面区域的总体配合的最小可能面积的矩形(74)具有至少1.5∶1的纵横比。

    衍射光学元件和干涉测量方法
    6.
    发明授权
    衍射光学元件和干涉测量方法 有权

    公开(公告)号：CN107816939B

    公开(公告)日：2020-04-14

    申请号：CN201711103826.0

    申请日：2013-09-27

    申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司

    发明人： J.赫茨勒

    IPC分类号： G01B9/02 ,  G01M11/00 ,  G01M11/02

    摘要： 提供了一种衍射光学元件(50)，具有基板(52)和布置在其上的衍射结构图案(54)。所述衍射结构图案构造为将辐射至其上的平面或球面输入波(42)转换为：1)至少四个分离的输出波，其中，所述输出波中的至少一个是非球面波，所述输出波中的至少另外一个是球面波(58；70)，所述输出波中的至少另外两个分别是平面波(60)或球面波(72，74)；2)至少三个分离波，其中的至少一个是非球面波，另外两个是球面或平面波；3)至少三个球面波。衍射光学元件用在干涉测量方法和装置中，用于确定光学元件的光学表面的实际形状与预期形状的偏离。光学元件制造成具有光学表面，用上述方法和装置测量的光学表面与预期形状的偏离位于预定水平之下。

    干涉确定光学表面的形状的测量装置
    7.
    发明公开
    干涉确定光学表面的形状的测量装置 有权

    公开(公告)号：CN109716056A

    公开(公告)日：2019-05-03

    申请号：CN201780054763.6

    申请日：2017-07-19

    申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司

    发明人： J.赫茨勒

    IPC分类号： G01B9/02

    摘要： 干涉确定测试件(14)的光学表面(12)的形状的测量装置(10)包括：产生照明波(34)的照明模块(16)，干涉仪(18)，该干涉仪(18)配置为将照明波分裂成参考波(52)和被指引到光学表面上的测试波(50)，两束波关于彼此倾斜使得当将它们叠加在干涉仪的检测平面(62)中时产生多个条纹干涉图案(66)。照明模块具有在检测平面的傅里叶平面中布置的光瞳平面(28)，并且照明模块配置为产生照明波使得光瞳平面中的照明波的强度分布包括一个或多个空间上隔离、连续的表面区域(38)，该表面区域(38)配置为使得具有与表面区域或表面区域的总体配合的最小可能面积的矩形(74)具有至少1.5∶1的纵横比。

    干涉形状测量的测量设备
    9.
    发明公开
    干涉形状测量的测量设备 审中-实审

    公开(公告)号：CN115380195A

    公开(公告)日：2022-11-22

    申请号：CN202180028436.X

    申请日：2021-02-12

    申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司

    发明人： J.赫茨勒

    IPC分类号： G01B11/24 ,  G01B9/02015 ,  G01M11/00 ,  G02B7/182

    摘要： 本发明涉及用于测试物(14‑1；14‑2)的表面(12)的干涉形状测量的测量设备(10)，该测量设备包括：衍射式光学元件(26‑1；26‑2)，用于从已经辐射进入的测量辐射(18)产生测试波(28)，该测试波被配置为辐射到测试物的表面上；偏转元件(22)，在测量辐射的束路径中衍射式光学元件的上游，以及用于保持偏转元件的保持装置(24，124)，该保持装置被配置为通过倾斜运动和平移运动的组合来改变偏转元件(22)的位置。

    用于表征测试物体的表面形状的设备和方法
    10.
    发明公开
    用于表征测试物体的表面形状的设备和方法 有权

    公开(公告)号：CN113424104A

    公开(公告)日：2021-09-21

    申请号：CN201980091828.3

    申请日：2019-12-21

    申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司

    发明人： J.赫茨勒 ,  H.詹内怀恩

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G01B9/02 ,  G01M11/02

    摘要： 本发明涉及一种用于表征测试物体的表面形状的设备和方法。根据本发明的用于表征测试物体的表面形状的设备具有：测试布置(130，230)，用于使用测试波来确定测试物体(111，112，113，211，212，213)的表面形状，其中，该测试波具有由衍射光学元件处的衍射产生的波前；第一真空室(110，210)；以及第二真空室(120，220)，其中，第二真空室(120，220)具有用于存放至少两个衍射光学元件(121，122，123，221，222，223)的供应室。