Invention Grant
CN107731939B 一种基于光衍射的柔性透明碳电极制备方法
失效 - 权利终止
- Patent Title: 一种基于光衍射的柔性透明碳电极制备方法
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Application No.: CN201710867913.7Application Date: 2017-09-22
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Publication No.: CN107731939BPublication Date: 2019-03-08
- Inventor: 谭先华 , 廖广兰 , 史铁林 , 孙博 , 林建斌 , 刘智勇 , 刘星月
- Applicant: 华中科技大学
- Applicant Address: 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号
- Assignee: 华中科技大学
- Current Assignee: 华中科技大学
- Current Assignee Address: 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号
- Agency: 华中科技大学专利中心
- Agent 曹葆青; 李智
- Main IPC: H01L31/0224
- IPC: H01L31/0224 ; G02F1/1343 ; G03F7/00 ; G06F3/041 ; H01L31/18

Abstract:
本发明属于微钠制造相关技术领域,其公开了基于光衍射的柔性透明碳电极制备方法,该方法包括以下步骤:(1)提供基底,并在所述基底上旋涂一层负性的光刻胶;(2)将掩膜设置在所述光刻胶上,并进行曝光处理,所述掩膜上设置有网格图形,所述网格图形呈矩形,其四个角部分别连接有大尺寸图形;(3)采用显影液对曝光后得到的样品进行显影后,再进行清洗以得到光刻胶悬浮网格;(4)将步骤(3)得到的样品在保护气体氛围下进行热解,并进行剥离以得到独立的整片碳网格结构,即柔性透明碳电极。本发明通过一次曝光即可获得光刻胶悬浮网格,工艺简单,参数容易控制,成品率较高。
Public/Granted literature
- CN107731939A 一种基于光衍射的柔性透明碳电极制备方法 Public/Granted day:2018-02-23
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