集成电路和形成集成电路的方法
摘要:
IC结构包括单元、第一导轨和第二导轨。单元包括第一有源区、第二有源区和第一栅极结构。第一有源区和第二有源区在第一方向上延伸并且位于第一层级处。第二有源区在第二方向上与第一有源区分离。第一栅极结构在第二方向上延伸,与第一有源区和第二有源区重叠,并且位于第二层级处。第一导轨在第一方向上延伸,与第一有源区重叠,配置为提供第一电源电压,并且位于第三层级处。第二导轨在第一方向上延伸,与第二有源区重叠,位于第三层级处,在第二方向上与第一导轨分离,并且配置为提供第二电源电压。本发明还提供了形成集成电路的方法。
公开/授权文献
0/0