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发明公开
CN108139691A 处理液及图案形成方法 无效 - 驳回

处理液及图案形成方法
摘要：
本发明的课题在于提供一种能够同时抑制抗蚀剂L/S图案中的图案崩塌的发生和抗蚀剂C/H图案中的遗漏不良的发生的抗蚀剂膜图案化用处理液及图案形成方法。本发明的处理液为用于对由感光化射线性或感放射线性树脂组合物得到的抗蚀剂膜进行显影及清洗中的至少一种且含有有机溶剂的抗蚀剂膜图案化用处理液，所述处理液含有相对介电常数为4.0以下的第1有机溶剂和相对介电常数为6.0以上的第2有机溶剂。
摘要（英）：

The treatment liquid of the present invention is a treatment liquid for patterning a resist film, which is used for subjecting a resist film obtained from an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition to at least one of development or washing, and contains an organic solvent, in which the treatment liquid contains a first organic solvent having a relative dielectric constant of 4.0 or less and a second organic solvent having a relative dielectric constant of 6.0 or more.

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