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公开(公告)号:CN112368640B
公开(公告)日:2025-02-07
申请号:CN201980039802.4
申请日:2019-07-01
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , C07C309/07 , C07C309/09 , C07C381/12 , C09K3/00 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20 , C07D235/18 , C07D307/00 , C07D307/33 , C07D327/06
Abstract: 本发明提供一种可获得LWR性能优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且,提供一种涉及上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含:光产酸剂A,其产生通式(I)所表示且pKa为‑1.00以上的酸;选自由产生pKa比由光产酸剂A产生的酸大1.00以上的酸的光产酸剂B、及共轭酸的pKa比由光产酸剂A产生的酸大1.00以上的含氮化合物C组成的组中的1种以上;以及酸分解性树脂,在包含产生pKa小于‑1.00的酸的光产酸剂D情况下,光产酸剂A的含有摩尔数相对于光产酸剂D的含有摩尔数之比为1.0以上。#imgabs0#
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公开(公告)号:CN113168100B
公开(公告)日:2024-12-17
申请号:CN202080006371.4
申请日:2020-01-14
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种即使在长期保存情况下也能得到LWR性能优异的图案的感光化射线性或感辐射线性树脂组合物。并且,提供一种与上述感光化射线性或感辐射线性树脂组合物相关的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。感光化射线性或感辐射线性树脂组合物包含由通式(I)表示的化合物和酸分解性树脂。M1+A‑‑L‑B‑M2+ (I)
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公开(公告)号:CN114072379A
公开(公告)日:2022-02-18
申请号:CN202080045638.0
申请日:2020-04-28
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C07C309/17 , C07C309/42 , C07C311/07 , C07C311/48 , C07C311/51 , C09K3/00 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/26
Abstract: 本发明的课题在于提供一种能够形成缺陷被抑制的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法。并且,本发明的其他课题在于提供一种包括上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法的图案形成方法、及使用了上述图案形成方法的电子器件的制造方法。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法为至少包含通过酸的作用分解而极性增大的树脂、通过光化射线或放射线的照射产生酸的化合物及溶剂的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法,是通过上述光化射线或放射线的照射产生酸的化合物包含选自由化合物(I)~下述化合物(III)组成的组中的1种以上的化合物,将包含上述通过酸的作用分解而极性增大的树脂及第1溶剂的第1溶液与选自由化合物(I)~化合物(III)组成的组中的1种以上的化合物混合而制造感光化射线性或感放射线性树脂组合物的方法。
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公开(公告)号:CN102870046A
公开(公告)日:2013-01-09
申请号:CN201180021813.3
申请日:2011-12-22
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041
Abstract: 本发明提供一种光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物,其包含(A)当与酸作用时分解从而增加其在碱性显影剂中的溶解度的树脂,(B)盐,所述盐在其阳离子部分中含有氮原子,所述盐当曝光于光化射线或辐射时分解从而产生酸,和(C)当曝光于光化射线或辐射时产生酸的化合物,所述化合物为下面通式(1-1)和(1-2)的化合物中的任一种。
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公开(公告)号:CN113168098A
公开(公告)日:2021-07-23
申请号:CN202080006340.9
申请日:2020-01-08
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004
Abstract: 本发明提供一种能够形成缺陷被抑制的图案的感光化射线性或感辐射线性树脂组合物。并且,提供一种使用了上述感光化射线性或感辐射线性树脂组合物的抗蚀剂膜及图案形成方法、以及使用了上述图案形成方法的电子器件的制造方法。感光化射线性或感辐射线性树脂组合物包含酸分解性树脂以及通过光化射线或辐射线的照射而产生酸的化合物,上述通过光化射线或辐射线的照射而产生酸的化合物包含:选自由化合物(I)~化合物(III)组成的组中的1种以上;以及选自由以通式(1)表示的化合物及由通式(2)表示的化合物组成的组中的1种以上。
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公开(公告)号:CN105051607B
公开(公告)日:2020-01-14
申请号:CN201480015627.2
申请日:2014-03-14
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F220/10 , G03F7/004 , G03F7/038 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种图案形成方法、感光化射线性或感放射线性树脂组合物和膜、及制造电子元件的方法。根据一个实施例,一种图案形成方法包含(a)由感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成膜;(b)使所述膜曝光;及(c)用含有机溶剂的显影剂使经曝光的所述膜显影,从而形成负型图案。所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含(A)当受酸作用时在所述含有机溶剂的显影剂中的溶解度降低的树脂,所述树脂含有具有以下通式(1)所表示的任何内酯结构的重复单元;及(B)在曝露于光化射线或放射线时产生酸的化合物。
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公开(公告)号:CN106716257B
公开(公告)日:2019-12-24
申请号:CN201580052713.5
申请日:2015-09-25
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种DOF及LER良好的图案形成方法、抗蚀剂图案及电子元件的制造方法。所述图案形成方法包括:步骤a,将感光化射线性或感放射线性树脂组合物涂布于基板上而形成抗蚀剂膜;步骤b,通过在所述抗蚀剂膜上涂布上层膜形成用组合物后,在100℃以上进行加热而在所述抗蚀剂膜上形成上层膜;步骤c,对形成有所述上层膜的所述抗蚀剂膜进行曝光;以及步骤d,使用包含有机溶剂的显影液,对经所述曝光的所述抗蚀剂膜进行显影而形成图案。
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公开(公告)号:CN104335119B
公开(公告)日:2018-10-09
申请号:CN201380026683.1
申请日:2013-05-23
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/038 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/32 , H01L21/027
Abstract: 提供一种图案形成方法,其包括:(i)由光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物形成膜的步骤;(ii)将膜曝光的步骤;以及(iii)通过使用含有有机溶剂的显影液进行显影以形成阴图型图案的步骤,其中所述光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物含有(A)能够通过酸的作用增加极性以降低在含有有机溶剂的显影液中的溶解度的树脂,(B)能够在用光化射线或放射线照射时生成酸的化合物,(C)溶剂,以及(D)含有具有氟原子并且不具有CF3部分结构的重复单元的树脂。
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公开(公告)号:CN106716257A
公开(公告)日:2017-05-24
申请号:CN201580052713.5
申请日:2015-09-25
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种DOF及LER良好的图案形成方法、利用所述图案形成方法而形成的抗蚀剂图案以及包含所述图案形成方法的电子元件的制造方法。所述图案形成方法包括:步骤a,将感光化射线性或感放射线性树脂组合物涂布于基板上而形成抗蚀剂膜;步骤b,通过在所述抗蚀剂膜上涂布上层膜形成用组合物后,在100℃以上进行加热而在所述抗蚀剂膜上形成上层膜;步骤c,对形成有所述上层膜的所述抗蚀剂膜进行曝光;以及步骤d,使用包含有机溶剂的显影液,对经所述曝光的所述抗蚀剂膜进行显影而形成图案。
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公开(公告)号:CN105051607A
公开(公告)日:2015-11-11
申请号:CN201480015627.2
申请日:2014-03-14
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F220/10 , G03F7/004 , G03F7/038 , H01L21/027
Abstract: 根据一个实施例,一种图案形成方法包含(a)由感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成膜;(b)使所述膜曝光;及(c)用含有机溶剂的显影剂使经曝光的所述膜显影,从而形成负型图案。所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含(A)当受酸作用时在所述含有机溶剂的显影剂中的溶解度降低的树脂,所述树脂含有具有以下通式(1)所表示的任何内酯结构的重复单元;及(B)在曝露于光化射线或放射线时产生酸的化合物。
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