-
公开(公告)号：CN105122138B
公开(公告)日：2019-11-15
申请号：CN201480021302.5
申请日：2014-04-30
申请人： 富士胶片株式会社
IPC分类号： G03F7/038 , C08F212/14 , C08F220/26 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/32 , H01L21/027
摘要： 本发明提供一种极其高水平地同时满足高灵敏度、高分辨率(高解像力等)、膜薄化减少性能的图案形成方法、树脂组合物、抗蚀剂膜、电子元件的制造方法及电子元件。该图案形成方法包括：(1)使用感光化射线性或感放射线性树脂组合物来形成膜、(2)利用光化射线或放射线对膜进行曝光、以及(3)使用包含有机溶剂的显影液对经曝光的膜进行显影，且感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有(A)具有通过酸的作用而分解并产生极性基的基的树脂，树脂(A)具有酚性羟基及/或由因酸的作用而脱离的基保护的酚性羟基，进而，包含有机溶剂的显影液含有与极性基形成离子键、氢键、化学键及偶极相互作用中的至少一种相互作用的添加剂。
-
公开(公告)号：CN109643063B
公开(公告)日：2022-07-22
申请号：CN201780052943.0
申请日：2017-08-23
申请人： 富士胶片株式会社
摘要： 本发明提供一种含有树脂和通过活性光线或放射线的照射产生酸的化合物的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。其中，上述树脂包含由下述通式(I‑1)表示的重复单元(a)和具有通过酸的作用包含单环的保护基脱离产生极性基的基团的重复单元(b)。式中，R11及R12分别独立地表示氢原子或烷基。R13表示氢原子或烷基、或者是单键或亚烷基，且与式中的L或Ar键合形成环。L表示单键或2价的连接基团。Ar表示芳香环。n表示2以上的整数。
-
-
公开(公告)号：CN116075777A
公开(公告)日：2023-05-05
申请号：CN202180054914.4
申请日：2021-08-24
申请人： 富士胶片株式会社
IPC分类号： G03F7/027
摘要： 本发明提供一种即使在低温下进行固化的情况下也可以获得断裂伸长率优异的固化物的固化物的制造方法、包括上述固化物的制造方法的层叠体的制造方法及包括上述固化物的制造方法或上述层叠体的制造方法的半导体器件的制造方法。固化物的制造方法、包括上述固化物的制造方法的层叠体的制造方法及包括上述固化物的制造方法或上述层叠体的制造方法的半导体器件的制造方法包括：膜形成工序，将特定的感光性树脂组合物适用于基材上而形成膜；曝光工序；显影工序；处理工序，使包含选自碱及产碱剂中的至少1种化合物的含碱处理液与上述图案接触；以及加热工序，上述含碱处理液中的水的含量为50质量％以下。
-
公开(公告)号：CN109803990A
公开(公告)日：2019-05-24
申请号：CN201780062407.9
申请日：2017-10-02
申请人： 富士胶片株式会社
IPC分类号： C08F8/12 , C08F212/14 , C08F220/16 , C08F224/00 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20
摘要： 本发明提供一种能够制造能够形成具有优异的解析性的抗蚀剂膜且能够减少形成图案时的浮渣的树脂的树脂的制造方法及感光化射线性或感放射线性组合物的制造方法。所述树脂的制造方法制造包含通式(1)所表示的重复单元和含有通过酸的作用进行分解而产生极性基团的基团的重复单元的树脂，所述制造方法包括以下工序：第一工序，得到包含通式(2)所表示的重复单元和含有通过酸的作用进行分解而产生极性基团的基团的重复单元的树脂前驱物；及第二工序，用酸或碱对树脂前驱物中的通式(2)所表示的重复单元中的-OY所表示的基团进行脱保护而得到通式(1)所表示的重复单元。
-
公开(公告)号：CN116113884A
公开(公告)日：2023-05-12
申请号：CN202180054236.1
申请日：2021-08-17
申请人： 富士胶片株式会社
IPC分类号： G03F7/027
摘要： 本发明提供一种即使在低温下固化的情况下，也可以得到断裂伸长率优异的固化物的固化物的制造方法、包含上述固化物的制造方法的层叠体的制造方法及包含上述固化物的制造方法或上述层叠体的制造方法的电子器件的制造方法。固化物的制造方法包括：膜形成工序，将特定的感光性树脂组合物适用于基材上而形成膜；曝光工序；显影工序，基于包含选自碱及产碱剂中的至少一种的化合物的显影液进行；以及加热工序，水的含量相对于上述显影液的总质量为50质量％以下。
-
公开(公告)号：CN108139691A
公开(公告)日：2018-06-08
申请号：CN201680057969.X
申请日：2016-09-26
申请人： 富士胶片株式会社
IPC分类号： G03F7/32 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0388 , G03F7/0045 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/32 , H01L21/027
摘要： 本发明的课题在于提供一种能够同时抑制抗蚀剂L/S图案中的图案崩塌的发生和抗蚀剂C/H图案中的遗漏不良的发生的抗蚀剂膜图案化用处理液及图案形成方法。本发明的处理液为用于对由感光化射线性或感放射线性树脂组合物得到的抗蚀剂膜进行显影及清洗中的至少一种且含有有机溶剂的抗蚀剂膜图案化用处理液，所述处理液含有相对介电常数为4.0以下的第1有机溶剂和相对介电常数为6.0以上的第2有机溶剂。
-
公开(公告)号：CN109643063A
公开(公告)日：2019-04-16
申请号：CN201780052943.0
申请日：2017-08-23
申请人： 富士胶片株式会社
摘要： 本发明提供一种含有树脂和通过活性光线或放射线的照射产生酸的化合物的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。其中，上述树脂包含由下述通式(I-1)表示的重复单元(a)和具有通过酸的作用包含单环的保护基脱离产生极性基的基团的重复单元(b)。式中，R11及R12分别独立地表示氢原子或烷基。R13表示氢原子或烷基、或者是单键或亚烷基，且与式中的L或Ar键合形成环。L表示单键或2价的连接基团。Ar表示芳香环。n表示2以上的整数。
-
公开(公告)号：CN107735730A
公开(公告)日：2018-02-23
申请号：CN201680035917.2
申请日：2016-05-24
申请人： 富士胶片株式会社
IPC分类号： G03F7/32 , C08F12/24 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： C08F12/24 , C08F12/22 , C08F212/14 , C08F220/10 , C09D125/18 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/32 , H01L21/027 , C08F2220/282 , C08F212/32 , C08F2220/281
摘要： 本发明提供一种显影液、使用该显影液的图案形成方法及包括该图案形成方法的电子设备的制造方法，所述显影液是为了以非常高的水准兼具高精度的微细图案的图案塌陷性能与桥接性能而用于由感光化射线性或感放射线性组合物所得的抗蚀剂膜，且含有具有支链烷基的酮系或醚系溶剂。
-
公开(公告)号：CN105122138A
公开(公告)日：2015-12-02
申请号：CN201480021302.5
申请日：2014-04-30
申请人： 富士胶片株式会社
IPC分类号： G03F7/038 , C08F212/14 , C08F220/26 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/32 , H01L21/027
摘要： 本发明提供一种极其高水平地同时满足高灵敏度、高分辨率(高解像力等)、膜薄化减少性能的图案形成方法。该图案形成方法包括：(1)使用感光化射线性或感放射线性树脂组合物来形成膜、(2)利用光化射线或放射线对膜进行曝光、以及(3)使用包含有机溶剂的显影液对经曝光的膜进行显影，且感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有(A)具有通过酸的作用而分解并产生极性基的基的树脂，树脂(A)具有酚性羟基及/或由因酸的作用而脱离的基保护的酚性羟基，进而，包含有机溶剂的显影液含有与极性基形成离子键结、氢键结、化学键结及偶极相互作用中的至少一种相互作用的添加剂。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
搜索结果
10 条记录 (耗时 0.029 秒)
