发明授权
- 专利标题: 半导体装置
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申请号: CN201711459035.1申请日: 2014-09-19
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公开(公告)号: CN108305893B公开(公告)日: 2021-07-16
- 发明人: 小川嘉寿子 , 川尻智司
- 申请人: 三垦电气株式会社
- 申请人地址: 日本埼玉县
- 专利权人: 三垦电气株式会社
- 当前专利权人: 三垦电气株式会社
- 当前专利权人地址: 日本埼玉县
- 代理机构: 北京三友知识产权代理有限公司
- 代理商 李辉; 蔡丽娜
- 优先权: JP2013-194834 20130920 JP JP2014-017592 20140131 JP JP2014-003865 20140718 JP JP2014-148356 20140718 JP JP2014-170137 20140825 JP
- 主分类号: H01L29/06
- IPC分类号: H01L29/06 ; H01L29/40 ; H01L29/423 ; H01L29/739 ; H01L29/10 ; H01L29/417
摘要:
本发明提供一种半导体装置,其为沟槽栅型半导体装置,能够充分消除耐压与通态电压的折中,还能够降低反馈电容。半导体装置具有:半导体基板,其层叠有第一半导体区域、第二半导体区域、第三半导体区域、以及第四半导体区域;绝缘膜,其配置于从第四半导体区域的上表面延伸并贯通第四半导体区域以及第三半导体区域而到达第二半导体区域的槽的内壁上;控制电极,其在槽的侧面与第三半导体区域的侧面对置地配置于绝缘膜上;第一主电极,其与第一半导体区域电连接;第二主电极,其与第三半导体区域以及第四半导体区域电连接;以及底面电极,其在槽的底面与控制电极间隔开地配置于绝缘膜之上,并与第二主电极电连接,在俯视观察时,槽在延伸方向上的长度在槽的宽度以上,且槽的宽度比相邻的槽之间的间隔大。
公开/授权文献
- CN108305893A 半导体装置 公开/授权日:2018-07-20
IPC分类: