- 专利标题: 带电粒子束装置以及带电粒子束装置的调整方法
- 专利标题(英): CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE AND METHOD FOR ADJUSTING CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE
-
申请号: CN201680081651.5申请日: 2016-03-28
-
公开(公告)号: CN108604522A公开(公告)日: 2018-09-28
- 发明人: 尾方智彦 , 长谷川正树 , 村越久弥 , 小贯胜则 , 兼冈则幸
- 申请人: 株式会社日立高新技术
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 株式会社日立高新技术
- 当前专利权人: 株式会社日立高新技术
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京银龙知识产权代理有限公司
- 代理商 范胜杰; 文志
- 国际申请: PCT/JP2016/059793 2016.03.28
- 国际公布: WO2017/168482 JA 2017.10.05
- 进入国家日期: 2018-08-10
- 主分类号: H01J37/04
- IPC分类号: H01J37/04 ; H01J37/05 ; H01J37/29
摘要:
本发明的目的在于提出一种能够高精度地调整成像光学系统与照射光学系统的带电粒子束装置。为了达到该目的,提出一种带电粒子束装置,其具备成为照射光学系统的第1带电粒子镜筒、使在该第1带电粒子镜筒内经过的带电粒子向对象物偏转的偏转器、以及成为成像光学系统的第2带电粒子镜筒,该带电粒子束装置具备:向对象物照射光的光源;以及控制装置,该控制装置根据基于从该光源放出的光的照射而产生的带电粒子的检测,求出维持某个偏转状态的多个偏转信号,并从该多个偏转信号中选择满足预定条件的偏转信号,或者根据由该多个偏转信号而作出的关系信息来计算满足预定条件的偏转信号。
公开/授权文献
- CN108604522B 带电粒子束装置以及带电粒子束装置的调整方法 公开/授权日:2020-07-14