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公开(公告)号：CN108604522A
公开(公告)日：2018-09-28
申请号：CN201680081651.5
申请日：2016-03-28
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 本发明的目的在于提出一种能够高精度地调整成像光学系统与照射光学系统的带电粒子束装置。为了达到该目的，提出一种带电粒子束装置，其具备成为照射光学系统的第1带电粒子镜筒、使在该第1带电粒子镜筒内经过的带电粒子向对象物偏转的偏转器、以及成为成像光学系统的第2带电粒子镜筒，该带电粒子束装置具备：向对象物照射光的光源；以及控制装置，该控制装置根据基于从该光源放出的光的照射而产生的带电粒子的检测，求出维持某个偏转状态的多个偏转信号，并从该多个偏转信号中选择满足预定条件的偏转信号，或者根据由该多个偏转信号而作出的关系信息来计算满足预定条件的偏转信号。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108603850B
公开(公告)日：2020-10-13
申请号：CN201680081518.X
申请日：2016-03-16
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G01N23/203
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够高精度地评价潜伤等的长缺陷的缺陷检查装置。为了达到其目的，所提出的该缺陷检查装置具备：拍摄元件，其使由形成于试样上的减速电场而未到达试样而反射的电子进行成像；紫外光源，其向上述试样照射紫外光；移动台，其使上述试样支承部件进行移动；以及控制装置，其控制该移动台，其中，该控制装置以使上述图像内包含的线状部的一部分或者该线状部的延长线上的线上部位与上述电子束的照射区域的特定部位进行定位的方式，控制上述移动台，并且重复进行控制上述移动台直到上述线状部的端部在上述电子束的照射区域内进行定位。
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公开(公告)号：CN108603850A
公开(公告)日：2018-09-28
申请号：CN201680081518.X
申请日：2016-03-16
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G01N23/203
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够高精度地评价潜伤等的长缺陷的缺陷检查装置。为了达到其目的，所提出的该缺陷检查装置具备：拍摄元件，其使由形成于试样上的减速电场而未到达试样而反射的电子进行成像；紫外光源，其向上述试样照射紫外光；移动台，其使上述试样支承部件进行移动；以及控制装置，其控制该移动台，其中，该控制装置以使上述图像内包含的线状部的一部分或者该线状部的延长线上的线上部位与上述电子束的照射区域的特定部位进行定位的方式，控制上述移动台，并且重复进行控制上述移动台直到上述线状部的端部在上述电子束的照射区域内进行定位。
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公开(公告)号：CN108603851B
公开(公告)日：2021-01-01
申请号：CN201680081653.4
申请日：2016-03-16
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G01N23/203
Abstract: 本发明的目的在于提供能够实现潜伤等的高精度检测或者潜伤等的高速检测等的缺陷检查装置。为了实现该目的，提出了一种缺陷检查装置，其具备：试样支承部件，其对从电子源释放出的电子束所照射的试样进行支承；负电压施加电源，其用于形成针对上述电子束的减速电场，该电子束照射到由该试样支承部件支承的试样；摄像元件，其对由于上述减速电场而未到达上述试样就反射了的电子进行成像；紫外光源，其向上述试样照射紫外光；以及运算处理装置，其对基于由上述摄像元件得到的信号来生成的图像进行处理，该运算处理装置基于至少在两个照射条件下照射上述紫外光时得到的多个图像信号，判定上述试样的缺陷的种类。
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公开(公告)号：CN108604522B
公开(公告)日：2020-07-14
申请号：CN201680081651.5
申请日：2016-03-28
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 本发明的目的在于提出一种能够高精度地调整成像光学系统与照射光学系统的带电粒子束装置。为了达到该目的，提出一种带电粒子束装置，其具备成为照射光学系统的第1带电粒子镜筒、使在该第1带电粒子镜筒内经过的带电粒子向对象物偏转的偏转器、以及成为成像光学系统的第2带电粒子镜筒，该带电粒子束装置具备：向对象物照射光的光源；以及控制装置，该控制装置根据基于从该光源放出的光的照射而产生的带电粒子的检测，求出维持某个偏转状态的多个偏转信号，并从该多个偏转信号中选择满足预定条件的偏转信号，或者根据由该多个偏转信号而作出的关系信息来计算满足预定条件的偏转信号。
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公开(公告)号：CN108603851A
公开(公告)日：2018-09-28
申请号：CN201680081653.4
申请日：2016-03-16
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G01N23/203
Abstract: 本发明的目的在于提供能够实现潜伤等的高精度检测或者潜伤等的高速检测等的缺陷检查装置。为了实现该目的，提出了一种缺陷检查装置，其具备：试样支承部件，其对从电子源释放出的电子束所照射的试样进行支承；负电压施加电源，其用于形成针对上述电子束的减速电场，该电子束照射到由该试样支承部件支承的试样；摄像元件，其对由于上述减速电场而未到达上述试样就反射了的电子进行成像；紫外光源，其向上述试样照射紫外光；以及运算处理装置，其对基于由上述摄像元件得到的信号来生成的图像进行处理，该运算处理装置基于至少在两个照射条件下照射上述紫外光时得到的多个图像信号，判定上述试样的缺陷的种类。
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