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公开(公告)号：CN108604522A
公开(公告)日：2018-09-28
申请号：CN201680081651.5
申请日：2016-03-28
申请人： 株式会社日立高新技术
摘要： 本发明的目的在于提出一种能够高精度地调整成像光学系统与照射光学系统的带电粒子束装置。为了达到该目的，提出一种带电粒子束装置，其具备成为照射光学系统的第1带电粒子镜筒、使在该第1带电粒子镜筒内经过的带电粒子向对象物偏转的偏转器、以及成为成像光学系统的第2带电粒子镜筒，该带电粒子束装置具备：向对象物照射光的光源；以及控制装置，该控制装置根据基于从该光源放出的光的照射而产生的带电粒子的检测，求出维持某个偏转状态的多个偏转信号，并从该多个偏转信号中选择满足预定条件的偏转信号，或者根据由该多个偏转信号而作出的关系信息来计算满足预定条件的偏转信号。
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公开(公告)号：CN115510939A
公开(公告)日：2022-12-23
申请号：CN202210516517.0
申请日：2022-05-11
申请人： 株式会社日立高新技术
IPC分类号： G06K9/62 , G06F16/50 , G06V10/764
摘要： 本发明提供一种图像识别系统。在对图像中包含的形状进行识别的图像识别系统中，即使在图像内映现有多个形状的情况下，也能够针对这些形状的单独的预测结果判定其成功与否的技术。本发明所涉及的图像识别系统按照在图像内识别出的每个对象形状并且按照特征量的每个种类，计算特征量的重要度，按照每个所述对象形状对所述重要度和特征量的每个种类的统计量进行比较，由此判定识别结果是否正确。
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公开(公告)号：CN118302790A
公开(公告)日：2024-07-05
申请号：CN202180104385.4
申请日：2021-12-17
申请人： 株式会社日立高新技术
IPC分类号： G06T7/00
摘要： 提供示教数据作成辅助装置，对于在图像内映有多个缺陷的图像，通过以还考虑其周边区域的形式确定每个缺陷的对应的特征量并映射到低维度空间，能进行有效率的学习图像的收集/选择。特征在于，具备：图像识别部，其基于学习结果来对输入图像提取特征量，根据所述特征量进行图像处理，输出识别结果；特征量确定部，其将所述图像识别部的1个以上的预测结果或指定区域作为输入，确定每个所述预测结果或所述指定区域的相应的所述特征量；检查结果特征量数据库，其保存每个所述预测结果或每个所述指定区域的所述特征量；和维度削减部，其对保存于所述检查结果特征量数据库的所述特征量进行维度削减并投影到低维度空间，所述特征量确定部具有：重要区域算出部，其按每个所述预测结果或每个所述指定区域来求取保持包含所述预测结果的检测区域或所述指定区域的周边的区域信息的重要区域；和特征量提取部，其通过对所述图像识别部所提取的所述特征量以所述重要区域进行加权，来提取每个所述预测结果或每个所述指定区域的相应的所述特征量。
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公开(公告)号：CN108603851B
公开(公告)日：2021-01-01
申请号：CN201680081653.4
申请日：2016-03-16
申请人： 株式会社日立高新技术
IPC分类号： G01N23/203
摘要： 本发明的目的在于提供能够实现潜伤等的高精度检测或者潜伤等的高速检测等的缺陷检查装置。为了实现该目的，提出了一种缺陷检查装置，其具备：试样支承部件，其对从电子源释放出的电子束所照射的试样进行支承；负电压施加电源，其用于形成针对上述电子束的减速电场，该电子束照射到由该试样支承部件支承的试样；摄像元件，其对由于上述减速电场而未到达上述试样就反射了的电子进行成像；紫外光源，其向上述试样照射紫外光；以及运算处理装置，其对基于由上述摄像元件得到的信号来生成的图像进行处理，该运算处理装置基于至少在两个照射条件下照射上述紫外光时得到的多个图像信号，判定上述试样的缺陷的种类。
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公开(公告)号：CN108604522B
公开(公告)日：2020-07-14
申请号：CN201680081651.5
申请日：2016-03-28
申请人： 株式会社日立高新技术
摘要： 本发明的目的在于提出一种能够高精度地调整成像光学系统与照射光学系统的带电粒子束装置。为了达到该目的，提出一种带电粒子束装置，其具备成为照射光学系统的第1带电粒子镜筒、使在该第1带电粒子镜筒内经过的带电粒子向对象物偏转的偏转器、以及成为成像光学系统的第2带电粒子镜筒，该带电粒子束装置具备：向对象物照射光的光源；以及控制装置，该控制装置根据基于从该光源放出的光的照射而产生的带电粒子的检测，求出维持某个偏转状态的多个偏转信号，并从该多个偏转信号中选择满足预定条件的偏转信号，或者根据由该多个偏转信号而作出的关系信息来计算满足预定条件的偏转信号。
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公开(公告)号：CN108603851A
公开(公告)日：2018-09-28
申请号：CN201680081653.4
申请日：2016-03-16
申请人： 株式会社日立高新技术
IPC分类号： G01N23/203
摘要： 本发明的目的在于提供能够实现潜伤等的高精度检测或者潜伤等的高速检测等的缺陷检查装置。为了实现该目的，提出了一种缺陷检查装置，其具备：试样支承部件，其对从电子源释放出的电子束所照射的试样进行支承；负电压施加电源，其用于形成针对上述电子束的减速电场，该电子束照射到由该试样支承部件支承的试样；摄像元件，其对由于上述减速电场而未到达上述试样就反射了的电子进行成像；紫外光源，其向上述试样照射紫外光；以及运算处理装置，其对基于由上述摄像元件得到的信号来生成的图像进行处理，该运算处理装置基于至少在两个照射条件下照射上述紫外光时得到的多个图像信号，判定上述试样的缺陷的种类。
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公开(公告)号：CN117616285A
公开(公告)日：2024-02-27
申请号：CN202280048651.0
申请日：2022-06-29
申请人： 株式会社日立高新技术 , F.霍夫曼-拉罗驰股份公司
IPC分类号： G01N35/00
摘要： 具备用于检体的分析的一个以上的机构、覆盖机构中的一个以上的主罩(21)、试剂罩(22)、检体罩(23)、以及检测主罩(21)、试剂罩(22)、检体罩(23)的开闭的开闭传感器(21a、22a、23a)，在开闭传感器(21a、22a、23a)检测到主罩(21)、试剂罩(22)、检体罩(23)打开时，控制部(80)使显示部(11)显示促使用户进行分析所需的作业的引导。由此，提供与以往相比能够减少用户的步骤的实施遗漏的自动分析装置以及自动分析装置中的引导方法。
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公开(公告)号：CN112119297A
公开(公告)日：2020-12-22
申请号：CN201880093447.4
申请日：2018-05-30
申请人： 株式会社日立高新技术
IPC分类号： G01N23/203 , G01N21/956
摘要： 本发明提供在存在由晶片的翘曲等引起的高度变动的观测对象中也很少发生画质的劣化的晶片检查技术。晶片检查装置使观测光学系统的焦点聚焦于由测量晶片表面高度的高度传感器测量出的高度，而且，根据与高度对应的光学倍率数据和工作台位置数据修正CCD线传感器的切换信号，实施与晶片表面高度对应的修正，由此能够得到劣化减少的图像(参照图1)。
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公开(公告)号：CN108603850B
公开(公告)日：2020-10-13
申请号：CN201680081518.X
申请日：2016-03-16
申请人： 株式会社日立高新技术
IPC分类号： G01N23/203
摘要： 本发明的目的在于提供一种能够高精度地评价潜伤等的长缺陷的缺陷检查装置。为了达到其目的，所提出的该缺陷检查装置具备：拍摄元件，其使由形成于试样上的减速电场而未到达试样而反射的电子进行成像；紫外光源，其向上述试样照射紫外光；移动台，其使上述试样支承部件进行移动；以及控制装置，其控制该移动台，其中，该控制装置以使上述图像内包含的线状部的一部分或者该线状部的延长线上的线上部位与上述电子束的照射区域的特定部位进行定位的方式，控制上述移动台，并且重复进行控制上述移动台直到上述线状部的端部在上述电子束的照射区域内进行定位。
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公开(公告)号：CN108603850A
公开(公告)日：2018-09-28
申请号：CN201680081518.X
申请日：2016-03-16
申请人： 株式会社日立高新技术
IPC分类号： G01N23/203
摘要： 本发明的目的在于提供一种能够高精度地评价潜伤等的长缺陷的缺陷检查装置。为了达到其目的，所提出的该缺陷检查装置具备：拍摄元件，其使由形成于试样上的减速电场而未到达试样而反射的电子进行成像；紫外光源，其向上述试样照射紫外光；移动台，其使上述试样支承部件进行移动；以及控制装置，其控制该移动台，其中，该控制装置以使上述图像内包含的线状部的一部分或者该线状部的延长线上的线上部位与上述电子束的照射区域的特定部位进行定位的方式，控制上述移动台，并且重复进行控制上述移动台直到上述线状部的端部在上述电子束的照射区域内进行定位。
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