发明授权
- 专利标题: 一种面外各向异性石榴石单晶薄膜及其制备方法
-
申请号: CN201811000028.X申请日: 2018-08-30
-
公开(公告)号: CN109023527B公开(公告)日: 2021-03-30
- 发明人: 杨青慧 , 吴玉娟 , 张怀武 , 张元婧 , 李苏凡 , 饶毅恒 , 文岐业
- 申请人: 电子科技大学
- 申请人地址: 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号
- 专利权人: 电子科技大学
- 当前专利权人: 成都飞锐特科技有限公司
- 当前专利权人地址: 610200 四川省成都市西南航空港经济开发区黄甲街道付家街388号B01栋1层(西侧)
- 代理机构: 电子科技大学专利中心
- 代理商 吴姗霖
- 主分类号: C30B29/28
- IPC分类号: C30B29/28 ; C30B29/64 ; C30B19/12
摘要:
一种面外各向异性石榴石单晶薄膜及其制备方法,属于电子材料技术领域。所述单晶薄膜的成分为Y3‑(a+b+c)BiaLubCacFe5‑dGedO12,其中0<a<0.5,0<b<1.0,0<c<1.0,0<d<1.0,且c=d。本发明以Y2O3、Lu2O3、Fe2O3、GeO2、CaO、PbO、Bi2O3、MoO3作为原料,采用分层放置原料的方法,在钆镓石榴石基片上得到了厚度最小可达到170nm的面外各向异性石榴石单晶薄膜;且得到的薄膜的生长速率与生长温度呈现非线性关系,呈现面外各向异性,可应用于自旋逻辑器件中。
公开/授权文献
- CN109023527A 一种面外各向异性石榴石单晶薄膜及其制备方法 公开/授权日:2018-12-18
IPC分类: