发明授权
- 专利标题： 清洗装置和清洗方法
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申请号： CN201910599771.X申请日： 2019-07-04
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公开(公告)号： CN110299313B公开(公告)日： 2022-09-16
- 发明人: 初国超
- 申请人： 北京北方华创微电子装备有限公司
- 申请人地址： 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号
- 专利权人： 北京北方华创微电子装备有限公司
- 当前专利权人： 北京北方华创微电子装备有限公司
- 当前专利权人地址： 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号
- 代理机构： 北京天昊联合知识产权代理有限公司
- 代理商 彭瑞欣; 张天舒
- 主分类号： H01L21/67
- IPC分类号： H01L21/67 ; H01L21/02 ; H01L21/677
摘要：
本发明公开了一种清洗装置和清洗方法。所述清洗装置包括至少一个第一上下料位以及至少一个第二上下料位；所述第一上下料位包括层叠设置的若干个第一子上下料位，所述若干个第一子上下料位能够升降，所述第一子上下料位用于承载空置的片盒；每个所述第二上下料位为单层结构，用于承载放置有清洗前晶圆的片盒或放置有清洗后晶圆的片盒。本发明的方案可以减少晶圆传送盒在机台工艺开始前的等待时间，有效地提高上个工艺与下个工艺的连续性。
公开/授权文献
- CN110299313A 清洗装置和清洗方法 公开/授权日：2019-10-01
IPC分类:
