发明公开
- 专利标题: 使用光谱计量的图案化膜堆叠的带隙测量
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申请号: CN201880051578.6申请日: 2018-08-06
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公开(公告)号: CN111279166A公开(公告)日: 2020-06-12
- 发明人: 王天含 , A·罗森贝格 , 胡大为 , A·库兹涅佐夫 , M·D·源 , S·潘戴夫 , J·莱索伊内 , 赵强 , 列-关·里奇·利 , H·舒艾卜 , 狄明 , T·卡阿卡 , A·舒杰葛洛夫 , 谭正泉
- 申请人: 科磊股份有限公司
- 申请人地址: 美国加利福尼亚州
- 专利权人: 科磊股份有限公司
- 当前专利权人: 科磊股份有限公司
- 当前专利权人地址: 美国加利福尼亚州
- 代理机构: 北京律盟知识产权代理有限责任公司
- 代理商 刘丽楠
- 优先权: 62/542,260 2017.08.07 US
- 国际申请: PCT/US2018/045302 2018.08.06
- 国际公布: WO2019/032412 EN 2019.02.14
- 进入国家日期: 2020-02-07
- 主分类号: G01J3/02
- IPC分类号: G01J3/02 ; G01J3/12 ; G01J3/28
摘要:
本发明揭示一种光谱计量系统,其包含光谱计量工具及控制器。所述控制器生成包含两个或更多个层的多层光栅的模型,所述模型包含指示所述多层光栅的测试层的几何结构的几何参数及指示所述测试层的色散的色散参数。所述控制器进一步从所述光谱计量工具接收对应于所述经模型化多层光栅的经制造多层光栅的光谱信号。所述控制器进一步确定所述经模型化多层光栅的所述一或多个参数的值,从而在选定公差内提供对应于所述经测量光谱信号的经模拟光谱信号。所述控制器进一步基于所述经制造结构的所述测试层的所述一或多个参数的所述经确定值来预测所述经制造多层光栅的所述测试层的带隙。
公开/授权文献
- CN111279166B 使用光谱计量的图案化膜堆叠的带隙测量 公开/授权日:2022-12-16