发明公开
- 专利标题： 一种光刻胶去胶液及其制备方法和应用
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申请号： CN202011486530.3申请日： 2020-12-16
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公开(公告)号： CN112540515A公开(公告)日： 2021-03-23
- 发明人: 梁豹 , 方磊 , 杜冰 , 刘文永 , 邱柱 , 刘伟 , 张茂 , 张兵 , 赵建龙 , 向文胜 , 朱坤 , 陆兰
- 申请人： 江苏艾森半导体材料股份有限公司
- 申请人地址： 江苏省苏州市昆山市千灯镇黄浦江路1647号
- 专利权人： 江苏艾森半导体材料股份有限公司
- 当前专利权人： 江苏艾森半导体材料股份有限公司
- 当前专利权人地址： 江苏省苏州市昆山市千灯镇黄浦江路1647号
- 代理机构： 北京品源专利代理有限公司
- 代理商 巩克栋
- 主分类号： G03F7/32
- IPC分类号： G03F7/32
摘要：
本发明提供了一种光刻胶去胶液及其制备方法和应用，所述光刻胶去胶液以重量份数计包括氢氧化季铵0.5‑10份、有机溶剂65‑85份、有机醇胺1‑20份、有机醇0.1‑5份、金属保护剂0.01‑5份和阻蚀剂0.1‑5份。本发明提供的光刻胶去胶液去胶速度快、去胶能力强，在较低温度都能保持去胶性能，而且降低了对金属、硅、氧化硅、钝化等各种底材的腐蚀，延长了工作时间，水溶性好，容易清洗。
公开/授权文献
- CN112540515B 一种光刻胶去胶液及其制备方法和应用 公开/授权日：2023-11-21
IPC分类:
