Invention Publication
- Patent Title: 一种基于掺钛氧化铌的1S1R器件及其制备方法
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Application No.: CN202110170101.3Application Date: 2021-02-03
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Publication No.: CN113066927APublication Date: 2021-07-02
- Inventor: 王浩 , 余志颖 , 季杰 , 檀秋阳 , 潘希彦 , 马国坤 , 饶毅恒 , 万厚钊 , 桃李 , 彭小牛 , 段金霞 , 汪汉斌 , 汪宝元
- Applicant: 湖北大学
- Applicant Address: 湖北省武汉市武昌区友谊大道368号
- Assignee: 湖北大学
- Current Assignee: 湖北大学
- Current Assignee Address: 湖北省武汉市武昌区友谊大道368号
- Agency: 北京金智普华知识产权代理有限公司
- Agent 张文俊
- Main IPC: H01L45/00
- IPC: H01L45/00 ; H01L27/24

Abstract:
本发明提供了一种基于掺钛氧化铌的1S1R器件及其制备方法,该器件包括:底电极;转换层;阻变层;顶电极;转换层为钛掺杂的氧化铌。本申请的器件,转换层为钛掺杂的氧化铌,基于该材料制得的选通管有操作电压十分稳定、抗高脉冲电流等优点;阻变层采用氮化硅薄膜,由于氮化物的存在使得氧空位移动受到限制,使得氧空位更为可控。本申请采用掺钛氧化铌作为选通管功能层和氮化硅薄膜作为阻变层,使制得的1S1R器件具有稳定的SET电压、RESET电压、负极性阈值电压和正极性保持电压等相关操作电压,明显的存储窗口和选通比(非线性值),在直流耐受性测试中表现出较强的稳定性,因此能够有效地减小漏电流,有一定的抗串扰能力。
Public/Granted literature
- CN113066927B 一种基于掺钛氧化铌的1S1R器件及其制备方法 Public/Granted day:2023-04-07
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