用液膜覆盖基板表面的状态下搬送基板的基板处理装置(1)，为了防止因搬送中的振动或液体的挥发等而导致的基板表面的露出，而具备：第1处理部(11A)，其向基板(S)供给液体并用液膜覆盖基板的表面；搬送机构(15)，其搬送担载液膜的基板；第2处理部(13A)，其接受通过搬送机构搬送的基板并执行预定的处理；拍摄部(157)，其拍摄形成于基板表面的液膜；以及控制部(90)，其基于通过拍摄部分别在从形成液膜起至通过搬送机构将基板搬入第2处理部的期间的互不相同的时刻拍摄的多个图像的差，来控制搬送机构的动作。