-
公开(公告)号：CN116783686A
公开(公告)日：2023-09-19
申请号：CN202180087813.7
申请日：2021-12-22
申请人： 株式会社斯库林集团
IPC分类号： H01L21/304
摘要： 一种基板处理装置以及基板处理方法，在腔室内的处理空间通过超临界状态的处理流体对基板进行处理，在腔室内比基板更靠下方的位置，配置对腔室内进行加热的加热器，将基板搬入至处理空间，并通过加热器进行加热，在将处理流体供给至处理空间并通过超临界状态的处理流体充满处理空间后，将处理流体从处理空间排出。针对从超临界状态的处理流体被导入至处理空间时起的规定的期间，使加热停止。能够一边将腔室内维持为适合超临界处理的温度，一边抑制成为乱流的原因的处理流体的温度变化，从而能够良好地进行对于基板的超临界处理。
-
公开(公告)号：CN111952229B
公开(公告)日：2024-04-16
申请号：CN202010406628.7
申请日：2020-05-14
申请人： 株式会社斯库林集团
IPC分类号： H01L21/677 , H01L21/67
摘要： 提供一种基板处理装置，在腔室间搬送经覆液的基板的基板处理装置中，能够切实地防止液体的飞散，并且实现腔室间的基板搬送。基板处理装置包括：底座部(1541)，与腔室邻接地配置；机械手(155)，保持基板(S)；机械臂(1542)，被安装在底座部(1541)，支撑机械手并使其相对于底座部而水平移动，由此来使机械手进退移动；以及罩部(156)，在内部空间收容机械手。罩部具有：罩本体(1561)，形成内部空间；以及延伸构件(1562)，具有沿水平方向贯通且其中一端成为开口(1562a)的中空结构，在使开口连通于内部空间且能够沿水平方向移动的状态下，卡合于罩本体。
-
公开(公告)号：CN116783687A
公开(公告)日：2023-09-19
申请号：CN202280010942.0
申请日：2022-01-05
申请人： 株式会社斯库林集团
发明人： 墨周武
IPC分类号： H01L21/304
摘要： 本发明的置换结束时间点的判定方法，在腔室内未存在置换对象液的干状态与在腔室存在有置换对象液的湿状态下分别根据规定的供给排出规程供给以及排出处理流体，一边将处理流体维持在超临界状态一边获取密度分布。在湿状态下的密度变得比干状态还大后，将两者的密度实质性地变成相等的时间点判定成处理流体对置换对象液的置换已经结束的时间点。能够在腔室内用超临界状态的处理流体将置换对象液予以置换时适当地判定置换的结束时期。
-
公开(公告)号：CN118715594A
公开(公告)日：2024-09-27
申请号：CN202380021805.1
申请日：2023-02-14
申请人： 株式会社斯库林集团
IPC分类号： H01L21/304
摘要： 本发明的基板处理方法以及基板处理系统，在保持为大致水平姿势的基板的表面形成由包含超精细气泡的液体所形成的液膜，向容纳形成有液膜的基板的腔室内导入非超临界状态的处理流体，并对处理流体进行加压而使处理流体达到超临界状态，通过处理流体置换基板表面的液体，对腔室内进行减压，使变为超临界状态的处理流体气化而向腔室外排出。在腔室内通过超临界状态的处理流体处理基板的技术中，能够通过成为超临界状态前的处理流体良好地进行液体的置换。
-
公开(公告)号：CN118613898A
公开(公告)日：2024-09-06
申请号：CN202280084586.7
申请日：2022-11-16
申请人： 株式会社斯库林集团
IPC分类号： H01L21/304 , F26B3/04 , H01L21/683
摘要： 本发明具备：处理腔室，具有用以处理基板的处理空间；支撑部，以水平姿势支撑基板且收容于处理空间；流体供给部，通过向处理腔室供给处理流体，在处理空间中使处理流体在固定方向流动；以及流体排出部，从处理腔室排出处理流体。支撑部具有与基板的下表面对向的基板对向面，将基板以从基板对向面向上方离开的状态加以支撑，在处理流体中的在基板与支撑部之间流动的处理流体的层流的路径中，位于固定方向的下游侧的下游路径较位于固定方向的上游侧的上游路径更宽。因此，当通过处理流体从基板去除液体时，能够防止该液体再次附着于基板。
-
公开(公告)号：CN113496921B
公开(公告)日：2024-08-30
申请号：CN202110358019.3
申请日：2021-04-01
申请人： 株式会社斯库林集团
发明人： 墨周武
IPC分类号： H01L21/67
摘要： 本发明提供在利用处理流体在腔室内对基板进行处理的基板处理装置中，能够有效防止从密封构件混入的杂质污染基板的技术。腔室(100)内设置有从腔室外接收处理流体并将其导入处理空间的导入流路(17)，从开口部观察，导入流路在所述处理空间中比处理空间内的所述基板更靠近里侧的位置开口。在比处理空间内的基板更靠开口部侧的位置，处理空间的顶面与基板保持部(15)的上表面隔着间隔地彼此平行相向，形成使通过了基板上方的处理流体流通且流路截面形状恒定的上侧流路(181)。上侧流路与由盖部(14)、腔室和密封构件(16)包围形成且流路截面面积大于上侧流路的缓冲空间(182)相连接，缓冲空间连接有将处理流体向腔室外排出的排出流路(183)。
-
公开(公告)号：CN116964717A
公开(公告)日：2023-10-27
申请号：CN202280020591.1
申请日：2022-03-16
申请人： 株式会社斯库林集团
发明人： 墨周武
IPC分类号： H01L21/304
摘要： 本发明的基板处理方法具备：超临界处理工序，将处理流体导入至收容了基板的腔室的内部空间，并通过超临界状态的处理流体处理基板；减压工序，排出处理流体并将内部空间减压；搬出工序，从腔室搬出基板；以及温度调整工序，将处理流体导入至搬出基板后的内部空间并排出处理流体，借此将内部空间的温度调整至目标温度。在用以在腔室内通过超临界状态的处理流体处理基板的技术中，能适当地管理处理后的腔室内的温度，尤其在按序处理多片基板的情形中也能获得稳定的处理效率。
-
公开(公告)号：CN113557591A
公开(公告)日：2021-10-26
申请号：CN202080020635.1
申请日：2020-02-04
申请人： 株式会社斯库林集团
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/304 , H01L21/306 , H01L21/677
摘要： 用液膜覆盖基板表面的状态下搬送基板的基板处理装置(1)，为了防止因搬送中的振动或液体的挥发等而导致的基板表面的露出，而具备：第1处理部(11A)，其向基板(S)供给液体并用液膜覆盖基板的表面；搬送机构(15)，其搬送担载液膜的基板；第2处理部(13A)，其接受通过搬送机构搬送的基板并执行预定的处理；拍摄部(157)，其拍摄形成于基板表面的液膜；以及控制部(90)，其基于通过拍摄部分别在从形成液膜起至通过搬送机构将基板搬入第2处理部的期间的互不相同的时刻拍摄的多个图像的差，来控制搬送机构的动作。
-
公开(公告)号：CN112151409A
公开(公告)日：2020-12-29
申请号：CN202010579435.1
申请日：2020-06-23
申请人： 株式会社斯库林集团
IPC分类号： H01L21/67
摘要： 本发明提供一种基板处理装置，其利用超临界状态的处理流体处理基板的表面，保护基板不受由流路内的处理流体的局部气化引起的压力变动的影响。在利用超临界状态的处理流体处理基板(S)的表面的基板处理装置(1)中，包括：腔室框体(10)，在内部设置有能够收容基板的处理空间(SP)、以及从外部接受处理流体并将处理流体引导到处理空间的流路(17)；以及流体供给部(57)，将处理流体压送到流路中，且在流路中设置有多个使处理流体的流通方向变化的弯曲部。
-
公开(公告)号：CN112151408A
公开(公告)日：2020-12-29
申请号：CN202010579434.7
申请日：2020-06-23
申请人： 株式会社斯库林集团
IPC分类号： H01L21/67
摘要： 沿着处理对象的基板表面形成稳定的处理流体的层流，从而效率良好地处理基板。本发明是一种基板处理装置，利用处理流体处理基板的表面，其包括：支撑托盘，在平板的上表面设置有收容基板的凹部；收纳容器，形成有与支撑托盘的外形对应的形状且顶面为水平面的空洞，且能够将支撑托盘以水平姿势收纳于空洞内的内部空间；以及流体供给部，向空洞供给处理流体，收纳容器具有流路，所述流路接受从流体供给部供给的处理流体并从在空洞的侧壁面面向空洞而开口的排出口向空洞内沿水平方向排出处理流体，上下方向上的排出口的下端位置与收纳在空洞内的支撑托盘的上表面的位置相同或者比其更靠上方。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
搜索结果
24 条记录 (耗时 0.033 秒)
