发明公开
- 专利标题: 横向双扩散金属氧化物半导体场效应管及其制作方法
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申请号: CN202111571321.3申请日: 2021-12-21
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公开(公告)号: CN113964188A公开(公告)日: 2022-01-21
- 发明人: 余山 , 赵东艳 , 王于波 , 陈燕宁 , 付振 , 刘芳 , 王凯 , 吴波 , 邓永峰 , 刘倩倩 , 郁文
- 申请人: 北京芯可鉴科技有限公司 , 北京智芯微电子科技有限公司 , 国网信息通信产业集团有限公司
- 申请人地址: 北京市昌平区双营西路79号院中科云谷园11号楼一层; ;
- 专利权人: 北京芯可鉴科技有限公司,北京智芯微电子科技有限公司,国网信息通信产业集团有限公司
- 当前专利权人: 北京芯可鉴科技有限公司,北京智芯微电子科技有限公司,国网信息通信产业集团有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市昌平区双营西路79号院中科云谷园11号楼一层; ;
- 代理机构: 北京润平知识产权代理有限公司
- 代理商 李红
- 主分类号: H01L29/06
- IPC分类号: H01L29/06 ; H01L29/78 ; H01L21/336
摘要:
本发明涉及半导体技术领域,提供一种横向双扩散金属氧化物半导体场效应管及其制作方法。所述横向双扩散金属氧化物半导体场效应管,包括衬底、栅极区、源极区、漏极区、P型体区以及位于所述衬底上的N型阱区、P型阱区和N型漂移区,还包括:离子注入形成的P型漂移区;所述P型漂移区位于所述N型阱区内,所述P型漂移区与所述P型体区之间存在预设距离。本发明在N型阱区内增加P型漂移区,P型漂移区与N型阱区的接触面构成PN结,P型漂移区与N型漂移区形成双重RESURF结构,降低器件的表面电场,并且能够承担更高的击穿电压,维持较低的导通电阻。
IPC分类: