发明授权
- 专利标题: 发光二极管的外延结构及其制造方法
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申请号: CN202111141108.9申请日: 2021-09-28
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公开(公告)号: CN113964246B公开(公告)日: 2024-05-31
- 发明人: 高默然 , 郑锦坚 , 王曼 , 毕京锋 , 范伟宏 , 李森林
- 申请人: 厦门士兰明镓化合物半导体有限公司
- 申请人地址: 福建省厦门市海沧区兰英路99号
- 专利权人: 厦门士兰明镓化合物半导体有限公司
- 当前专利权人: 厦门士兰明镓化合物半导体有限公司
- 当前专利权人地址: 福建省厦门市海沧区兰英路99号
- 代理机构: 北京成创同维知识产权代理有限公司
- 代理商 蔡纯
- 主分类号: H01L33/04
- IPC分类号: H01L33/04 ; H01L33/06 ; H01L33/14 ; H01L33/32 ; H01L33/00
摘要:
公开了一种发光二极管的外延结构及其制造方法,发光二极管的外延结构包括:衬底;位于衬底上的外延层,所述外延层包括在衬底上依次堆叠的第一半导体层、发光层、电子阻挡层和第二半导体层,所述第一半导体层具有第一掺杂类型,所述第二半导体具有第二掺杂类型,所述第一掺杂类型和所述第二掺杂类型的极性相反;位于所述外延层中的碳掺杂的氮化物层,所述碳掺杂的氮化物层包括碳掺杂的第二氮化物层,所述碳掺杂的第二氮化物层位于所述发光层和所述电子阻挡层之间。本发明提供的发光二极管的外延结构及其制造方法,可以提高发光二极管的发光效率。
公开/授权文献
- CN113964246A 发光二极管的外延结构及其制造方法 公开/授权日:2022-01-21
IPC分类: