发明公开
- 专利标题: 一种NLDMOS器件及制备方法、芯片
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申请号: CN202210014429.0申请日: 2022-01-07
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公开(公告)号: CN114050181A公开(公告)日: 2022-02-15
- 发明人: 赵东艳 , 王于波 , 邓永峰 , 陈燕宁 , 付振 , 刘芳 , 余山 , 吴波 , 郁文 , 王凯 , 刘倩倩
- 申请人: 北京芯可鉴科技有限公司 , 北京智芯微电子科技有限公司 , 国网信息通信产业集团有限公司
- 申请人地址: 北京市昌平区双营西路79号院中科云谷园11号楼一层; ;
- 专利权人: 北京芯可鉴科技有限公司,北京智芯微电子科技有限公司,国网信息通信产业集团有限公司
- 当前专利权人: 北京芯可鉴科技有限公司,北京智芯微电子科技有限公司,国网信息通信产业集团有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市昌平区双营西路79号院中科云谷园11号楼一层; ;
- 代理机构: 北京润平知识产权代理有限公司
- 代理商 高英英
- 主分类号: H01L29/06
- IPC分类号: H01L29/06 ; H01L29/78 ; H01L21/336
摘要:
本发明实施例提供一种NLDMOS器件及制备方法、芯片,所述NLDMOS器件包括:衬底,所述衬底上方设有第一高压N阱区和第二高压N阱区,所述第一高压N阱区和第二高压N阱区之间留有衬底间隙;所述第一高压N阱区和第二高压N阱区上设有P型降低电场区,所述P型降低电场区经过所述衬底间隙;所述第一高压N阱区上还设有P型体区,所述第二高压N阱区上设有N型漂移区;所述P型体区、衬底间隙以及N型漂移区形成PIN结。所述NLDMOS器件的结构设计有效的提高了击穿电压。
公开/授权文献
- CN114050181B 一种NLDMOS器件及制备方法、芯片 公开/授权日:2022-03-22
IPC分类: