发明公开
- 专利标题： 基于计算量测的校正和控制
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申请号： CN202210951655.1申请日： 2018-11-20
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公开(公告)号： CN115294068A公开(公告)日： 2022-11-04
- 发明人: M·里泽斯特拉 , C·J·H·兰姆布列支 , W·T·特尔 , S·罗伊 , C·D·格乌斯塔 , 粘惎非 , 寇伟田 , 陈彰伟 , P·G·J·斯莫恩伯格
- 申请人： ASML荷兰有限公司
- 申请人地址： 荷兰维德霍温
- 专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人地址： 荷兰维德霍温
- 代理机构： 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 王益
- 优先权： 18200014.1 20181012 EP 62/607,777 20171219 US
- 主分类号： G06T7/00
- IPC分类号： G06T7/00 ; G06T5/00 ; G06T7/60
摘要：
本文中描述了一种用于确定对图案化过程的校正的方法。该方法包括：获得图案化过程的多个品质(例如多个参数映射，或者一个或更多个校正)，所述多个品质是从量测数据以及在图案化过程中使用的设备的数据导出的；由硬件计算机系统从所述多个品质中选择代表性品质；以及由硬件计算机系统基于代表性品质确定对图案化过程的校正。
