光电辅助等离子体点燃
摘要:
一种衬底处理系统包含气体源、RF源、以及光源。所述气体源供应第一气体至所述衬底处理系统的处理模块。所述RF源在供应所述第一气体至所述衬底处理系统的所述处理模块时供应RF功率至所述处理模块以产生等离子体。所述光源被耦合至所述处理模块以在所述等离子体产生期间将光导入所述处理模块中。
0/0