本文中所述的技术涉及促进衬底与含金属光致抗蚀剂之间的粘附性的方法、装置和系统。例如，方法可包括：在反应室中接收衬底，衬底具有暴露在其表面上的第一材料，所述第一材料包含基于硅的材料和/或基于碳的材料；由等离子体产生气体源产生等离子体，其基本上不含硅，其中所述等离子体包含化学官能团；使所述衬底暴露于所述等离子体，以通过在所述第一材料与来自所述等离子体的所述化学官能团之间形成键而对所述衬底的所述表面进行改性；以及，在所述衬底的所述改性表面上沉积所述含金属光致抗蚀剂，其中在所述第一材料与所述化学官能团之间的所述键促进在所述衬底与所述含金属光致抗蚀剂之间的粘附性。