发明公开
- 专利标题： 去除衬底残留物的原位背面等离子体处理
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申请号： CN202280064268.4申请日： 2022-09-15
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公开(公告)号： CN117981042A公开(公告)日： 2024-05-03
- 发明人: 洪图 , 曹车正 , 季春海 , 李明
- 申请人： 朗姆研究公司
- 申请人地址： 美国加利福尼亚州
- 专利权人： 朗姆研究公司
- 当前专利权人： 朗姆研究公司
- 当前专利权人地址： 美国加利福尼亚州
- 代理机构： 上海胜康律师事务所
- 代理商 樊英如; 童礼翎
- 优先权： 63/246,861 20210922 US
- 国际申请： PCT/US2022/043635 2022.09.15
- 国际公布： WO2023/049013 EN 2023.03.30
- 进入国家日期： 2024-03-22
- 主分类号： H01J37/32
- IPC分类号： H01J37/32 ; H01L21/687
摘要：
一种处理衬底的方法，将该衬底装载至穿过基座的多个升降销上，该基座配置在处理室中。将该多个升降销降低以将该衬底搁置在该基座上。供应沉积气体混合物以将膜沉积在该衬底上。停止该沉积气体混合物的该供应。使用该多个升降销将该衬底升高至该处理室中的该基座之上。供应蚀刻气体混合物。在该衬底与该基座的该表面之间激励该处理室中的等离子体以去除残留膜。
