横向双扩散场效应晶体管、制作方法、芯片及电路
摘要:
本发明提供一种横向双扩散场效应晶体管、制作方法、芯片及电路,涉及半导体技术领域。晶体管包括:衬底、第一阱区、体区、漂移区、源极、漏极和栅极,场板凹槽,形成于漂移区;夹层结构,形成于场板凹槽内,夹层结构由下至上依次包括:第一氧化层、氮化硅层和第二氧化层;第一氧化层为中间薄两边厚的构型,包括:垫底氧化层和两个氧化侧墙,氧化侧墙突出于衬底;多晶硅层,形成于夹层结构上表面;多晶硅层和夹层结构共同构成场板结构,在多晶硅层施加电压之后,夹层结构能存储电荷,控制载流子在漂移区内的流通路径。本发明能够存储电荷,改善表面的自热效应,提高击穿电压,提高器件的可靠性,增强场板的作用,提高击穿电压,节省工艺流程。
IPC分类:
H 电学
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件(使用半导体器件的测量入G01;一般电阻器入H01C;磁体、电感器、变压器入H01F;一般电容器入H01G;电解型器件入H01G9/00;电池组、蓄电池入H01M;波导管、谐振器或波导型线路入H01P;线路连接器、汇流器入H01R;受激发射器件入H01S;机电谐振器入H03H;扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R;一般电光源入H05B;印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K;在具有特殊应用的电路中使用的半导体器件见应用相关的小类)
H01L29/00 专门适用于整流、放大、振荡或切换,并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的半导体器件;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒,例如PN结耗尽层或载流子集结层的电容器或电阻器;半导体本体或其电极的零部件(H01L31/00至H01L47/00,H01L51/05优先;除半导体或其电极之外的零部件入H01L23/00;由在一个共用衬底内或其上形成的多个固态组件组成的器件入H01L27/00)
H01L29/66 .按半导体器件的类型区分的
H01L29/68 ..只能通过对一个不通有待整流、放大或切换的电流的电极供给电流或施加电位方可进行控制的(H01L29/96优先)
H01L29/76 ...单极器件
H01L29/772 ....场效应晶体管
H01L29/78 .....由绝缘栅产生场效应的
0/0