横向双扩散场效应晶体管、制作方法、芯片及电路

    公开(公告)号:CN118610266A

    公开(公告)日:2024-09-06

    申请号:CN202411082427.0

    申请日:2024-08-08

    摘要: 本发明提供一种横向双扩散场效应晶体管、制作方法、芯片及电路,涉及半导体技术领域。晶体管包括:衬底、第一阱区、体区、漂移区、源极、漏极和栅极,场板凹槽,形成于漂移区;夹层结构,形成于场板凹槽内,夹层结构由下至上依次包括:第一氧化层、氮化硅层和第二氧化层;第一氧化层为中间薄两边厚的构型,包括:垫底氧化层和两个氧化侧墙,氧化侧墙突出于衬底;多晶硅层,形成于夹层结构上表面;多晶硅层和夹层结构共同构成场板结构,在多晶硅层施加电压之后,夹层结构能存储电荷,控制载流子在漂移区内的流通路径。本发明能够存储电荷,改善表面的自热效应,提高击穿电压,提高器件的可靠性,增强场板的作用,提高击穿电压,节省工艺流程。