发明公开
- 专利标题： 衬底处理系统的ESC的底涂层覆盖和电阻控制
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申请号： CN202280090426.3申请日： 2022-12-13
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公开(公告)号： CN118660987A公开(公告)日： 2024-09-17
- 发明人: 洪图 , 季春海 , 张鹏翼 , 尼拉杰·拉纳 , 毕峰 , 李明
- 申请人： 朗姆研究公司
- 申请人地址： 美国加利福尼亚州
- 专利权人： 朗姆研究公司
- 当前专利权人： 朗姆研究公司
- 当前专利权人地址： 美国加利福尼亚州
- 代理机构： 上海胜康律师事务所
- 代理商 樊英如; 张华
- 优先权： 63/304,379 20220128 US
- 国际申请： PCT/US2022/052713 2022.12.13
- 国际公布： WO2023/146648 EN 2023.08.03
- 进入国家日期： 2024-07-29
- 主分类号： C23C16/458
- IPC分类号： C23C16/458 ; C23C16/509 ; H01L21/683
摘要：
一种静电卡盘(ESC)底涂系统包含存储器和控制器。该存储器储存底涂应用。该控制器被配置成执行该底涂应用以进行：确定底涂参数；执行完整清洁工艺以移除在衬底处理系统的处理室中的底涂沉积物；以及基于该底涂参数，执行一或多个沉积工艺，以在该ESC上沉积一或多个底涂层，以提供具有总厚度介于7‑15μm之间的整体底涂层，在该ESC上的衬底进行后续沉积工艺期间，该一或多个底涂层提供对该ESC的保护。
IPC分类:
