发明公开
CN118837639A 一种噪声去嵌方法及装置
审中-公开
- 专利标题: 一种噪声去嵌方法及装置
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申请号: CN202410839629.9申请日: 2024-06-26
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公开(公告)号: CN118837639A公开(公告)日: 2024-10-25
- 发明人: 丁旭 , 徐梦园 , 李云锋
- 申请人: 浙江铖昌科技股份有限公司
- 申请人地址: 浙江省杭州市西湖区智强路428号云创镓谷研发中心3号楼
- 专利权人: 浙江铖昌科技股份有限公司
- 当前专利权人: 浙江铖昌科技股份有限公司
- 当前专利权人地址: 浙江省杭州市西湖区智强路428号云创镓谷研发中心3号楼
- 代理机构: 北京格允知识产权代理有限公司
- 代理商 王文雅
- 主分类号: G01R29/26
- IPC分类号: G01R29/26 ; G01R31/28
摘要:
本发明公开了一种噪声去嵌方法及装置,属于芯片测量领域。方法包括:获取被测器件的S参数测量值和噪声参数测量值,并获取预设去嵌结构的S参数测量值;获取的测量值均是在S参数校准和噪声校准后测量得到的;根据S参数测量值以及电阻‑电感‑电容负载模型中的已知电阻值,计算负载模型中的等效电容值和等效电感值;负载模型的电路连接方式为:电容与电阻形成并联电路,该并联电路与电感串联;根据负载模型计算负载真实反射系数,并将负载真实反射系数代入去嵌算法中计算得到待去嵌结构的S参数;根据待去嵌结构的S参数以及被测器件的S参数测量值和噪声参数测量值,计算去嵌后被测器件的真实噪声参数。本发明得到的噪声去嵌结果精度更高。