Invention Publication
- Patent Title: 一种锗终端金刚石场效应晶体管及其制备方法
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Application No.: CN202411043488.6Application Date: 2024-07-31
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Publication No.: CN118943203APublication Date: 2024-11-12
- Inventor: 张明辉 , 王宏兴 , 王玮 , 陈根强 , 问峰 , 林芳 , 王艳丰 , 张鹏飞
- Applicant: 西安交通大学
- Applicant Address: 陕西省西安市碑林区咸宁西路28号
- Assignee: 西安交通大学
- Current Assignee: 西安交通大学
- Current Assignee Address: 陕西省西安市碑林区咸宁西路28号
- Agency: 西安通大专利代理有限责任公司
- Agent 李鹏威
- Main IPC: H01L29/786
- IPC: H01L29/786 ; H01L29/165 ; H01L29/16 ; H01L29/10 ; H01L21/336

Abstract:
本发明属于半导体器件技术领域,公开了一种锗终端金刚石场效应晶体管及其制备方法;其中,所述锗终端金刚石场效应晶体管中,单晶金刚石衬底上形成有锗终端金刚石导电沟道;锗终端金刚石导电沟道上设置有源电极和漏电极,源电极、漏电极均与锗终端金刚石导电沟道形成欧姆接触;源电极、漏电极以及源电极和漏电极之间区域之外裸露的锗终端金刚石导电沟道区域设置为氧终端区域;源电极、漏电极以及源电极和漏电极之间的锗终端金刚石导电沟道上设置有介质层;介质层上设有栅电极。本发明采用锗终端金刚石导电沟道的技术手段,场效应晶体管具有稳定性好、界面态密度低、载流子迁移率高的优点。
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IPC分类: