Invention Publication
CN119451104A 一种图案化方法
审中-实审
- Patent Title: 一种图案化方法
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Application No.: CN202411525178.8Application Date: 2024-10-29
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Publication No.: CN119451104APublication Date: 2025-02-14
- Inventor: 刘利晨 , 许培育
- Applicant: 福建省晋华集成电路有限公司
- Applicant Address: 福建省泉州市晋江市集成电路科学园联华大道88号
- Assignee: 福建省晋华集成电路有限公司
- Current Assignee: 福建省晋华集成电路有限公司
- Current Assignee Address: 福建省泉州市晋江市集成电路科学园联华大道88号
- Agency: 上海思捷知识产权代理有限公司
- Agent 郑玮
- Main IPC: H10B12/00
- IPC: H10B12/00
Abstract:
本发明提供了一种图案化方法，应用于半导体技术领域。在本发明中，通过增设掩膜层的方式，达到增大第一区中的图案密度，进而避免侧壁层发生倒塌的目的。
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