发明公开
CN1456940A 光刻装置、器件制造方法及其制得的器件
失效 - 权利终止
- 专利标题： 光刻装置、器件制造方法及其制得的器件
- 专利标题（英）： Photoetching device, component manufacturing method and component therefrom
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申请号： CN03136806.9申请日： 2003-04-07
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公开(公告)号： CN1456940A公开(公告)日： 2003-11-19
- 发明人: H·R·罗辛 , M·A·范登布林克 , R·A·乔治
- 申请人： ASML荷兰有限公司
- 申请人地址： 荷兰维尔德霍芬
- 专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人地址： 荷兰维尔德霍芬
- 代理机构： 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 章社杲
- 优先权： 02252526.5 2002.04.09 EP
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20 ; G03F9/00 ; G06K9/00 ; G06T11/20 ; H01L21/027
摘要：
光刻投射装置1具有至少两个基底保持器WT1、WT2，包括减小由两基底保持器间差异引起成像差异的影响的装置。装置1包括内部的或外部的用于识别基底和将其与各自的一个基底保持器相联系的装置。从而，该装置确保在适当的基底保持器上加工该基底或者对成像进行修正。在另一个实施方案中，基底与各自的一个基底保持器相联系并且始终用该基底保持器加工而无需另外的识别步骤。
公开/授权文献
- CN1279404C 光刻装置、器件制造方法及其制得的器件 公开/授权日：2006-10-11
IPC分类:
