公开(公告)号：CN1456940A

公开(公告)日：2003-11-19

申请号：CN03136806.9

申请日：2003-04-07

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： H·R·罗辛 ,  M·A·范登布林克 ,  R·A·乔治

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  G06K9/00 ,  G06T11/20 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/70633 ,  G03F7/70733 ,  Y10T428/24802 ,  Y10T428/24835

摘要： 光刻投射装置1具有至少两个基底保持器WT1、WT2，包括减小由两基底保持器间差异引起成像差异的影响的装置。装置1包括内部的或外部的用于识别基底和将其与各自的一个基底保持器相联系的装置。从而，该装置确保在适当的基底保持器上加工该基底或者对成像进行修正。在另一个实施方案中，基底与各自的一个基底保持器相联系并且始终用该基底保持器加工而无需另外的识别步骤。

公开(公告)号：CN1279404C

公开(公告)日：2006-10-11

申请号：CN03136806.9

申请日：2003-04-07

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： H·R·罗辛 ,  M·A·范登布林克 ,  R·A·乔治

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  G06K9/00 ,  G06T11/20 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/70633 ,  G03F7/70733 ,  Y10T428/24802 ,  Y10T428/24835

摘要： 光刻投射装置1具有至少两个基底保持器WT1、WT2，包括减小由两基底保持器间差异引起成像差异的影响的装置。装置1包括内部的或外部的用于识别基底和将其与各自的一个基底保持器相联系的装置。从而，该装置确保在适当的基底保持器上加工该基底或者对成像进行修正。在另一个实施方案中，基底与各自的一个基底保持器相联系并且始终用该基底保持器加工而无需另外的识别步骤。