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公开(公告)号：CN108701576B
公开(公告)日：2021-06-15
申请号：CN201680082561.8
申请日：2016-12-09
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： B·卡斯川普 , J·C·H·缪尔肯斯 , M·A·范登布林克 , 约瑟夫·帕卓斯·亨瑞克瑞·本叔普 , E·P·斯马克曼 , T·朱兹海妮娜 , C·A·维索尔伦
IPC分类号： H01J37/065 , H01J37/15
摘要： 本发明公开了一种电子束检查设备，该设备包括：多个电子束柱(600)，每个电子束柱配置成提供电子束且检测来自物体的散射电子或二次电子；和致动器系统(600，610)，其配置成使所述电子束柱中的一个或更多个相对于所述电子束柱中的另外的一个或更多个移动(640，630)。所述致动器系统可包括多个第一可移动结构，所述多个第一可移动结构与多个第二可移动结构至少部分地重叠，所述第一可移动结构和所述第二可移动结构支撑所述多个电子束柱。
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公开(公告)号：CN113330369A
公开(公告)日：2021-08-31
申请号：CN201980089412.8
申请日：2019-11-28
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： M·A·范登布林克
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 光刻设备接收辐射以经由投影光学器件将图案成像到衬底上的多个目标区域上。每个目标区域在成像期间通过辐射的吸收来接收热负载。该设备具有用于在成像期间将衬底保持在空间均匀的恒定的第一温度的热调节系统。热调节系统具有操作以从衬底提取热的散热器；以及在成像期间向衬底的部分提供第一附加热负载的第一加热器系统。这部分是图案被成像到的特定目标区域的补充。单位面积的第一附加热负载等于或超过单位面积的热负载的量值。
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公开(公告)号：CN113614645A
公开(公告)日：2021-11-05
申请号：CN202080022989.X
申请日：2020-02-20
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： O·F·J·努德曼 , 安东尼厄斯·西奥多勒斯·威廉慕斯·肯彭 , 简·伯纳德·普莱彻尔墨斯·范斯库特 , M·A·范登布林克
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 一种光刻系统，包括辐射源和光刻设备。辐射源将辐射提供至光刻设备。光刻设备使用辐射将图案成像至位于半导体衬底上的光致抗蚀剂层上的多个目标区域上。成像需要预定剂量的辐射。该系统被控制为根据预定剂量的量值来设定辐射的功率水平。
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公开(公告)号：CN1873542A
公开(公告)日：2006-12-06
申请号：CN200610099860.0
申请日：2006-05-23
申请人： ASML荷兰有限公司
摘要： 本发明涉及一种双台座光刻设备，其中，构建并设置台座使其相互协作，以便于执行连接扫描移动，用于将该设备从第一位置带到第二位置，其中在第一位置，所述液体被限制在所述台座中的第一台座支撑的第一衬底和最后元件之间，在第二位置所述液体被限制在两个台座中的第二台座支撑的第二衬底和最后元件之间，从而在连接扫描移动过程中，液体基本被限制在关于最后元件的所述空间内。
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公开(公告)号：CN108701576A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201680082561.8
申请日：2016-12-09
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： B·卡斯川普 , J·C·H·缪尔肯斯 , M·A·范登布林克 , 约瑟夫·帕卓斯·亨瑞克瑞·本叔普 , E·P·斯马克曼 , T·朱兹海妮娜 , C·A·维索尔伦
IPC分类号： H01J37/065 , H01J37/15
CPC分类号： H01J37/263 , H01J37/023 , H01J37/15 , H01J37/22 , H01J37/244 , H01J37/28 , H01J2237/0245 , H01J2237/2817
摘要： 本发明公开了一种电子束检查设备，该设备包括：多个电子束柱(600)，每个电子束柱配置成提供电子束且检测来自物体的散射电子或二次电子；和致动器系统(600，610)，其配置成使所述电子束柱中的一个或更多个相对于所述电子束柱中的另外的一个或更多个移动(640，630)。所述致动器系统可包括多个第一可移动结构，所述多个第一可移动结构与多个第二可移动结构至少部分地重叠，所述第一可移动结构和所述第二可移动结构支撑所述多个电子束柱。
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公开(公告)号：CN1279404C
公开(公告)日：2006-10-11
申请号：CN03136806.9
申请日：2003-04-07
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00 , G06K9/00 , G06T11/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70633 , G03F7/70733 , Y10T428/24802 , Y10T428/24835
摘要： 光刻投射装置1具有至少两个基底保持器WT1、WT2，包括减小由两基底保持器间差异引起成像差异的影响的装置。装置1包括内部的或外部的用于识别基底和将其与各自的一个基底保持器相联系的装置。从而，该装置确保在适当的基底保持器上加工该基底或者对成像进行修正。在另一个实施方案中，基底与各自的一个基底保持器相联系并且始终用该基底保持器加工而无需另外的识别步骤。
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公开(公告)号：CN116368436A
公开(公告)日：2023-06-30
申请号：CN202180073012.5
申请日：2021-10-29
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： M·A·范登布林克
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 一种使光学元件热变形的方法，所述光学元件包括热膨胀系数与温度有关的材料，所述方法包括：将热传递至所述光学元件或从所述光学元件传递热以建立所述光学元件的温度设定点，使得所述热膨胀系数具有非零值，和加热所述光学元件以产生所述光学元件的热变形。
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公开(公告)号：CN102096339B
公开(公告)日：2013-10-09
申请号：CN201110039515.9
申请日：2006-05-23
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明涉及一种双台座光刻设备，其中，构建并设置台座使其相互协作，以便于执行连接扫描移动，用于将该设备从第一位置带到第二位置，其中在第一位置，所述液体被限制在所述台座中的第一台座支撑的第一衬底和最后元件之间，在第二位置所述液体被限制在两个台座中的第二台座支撑的第二衬底和最后元件之间，从而在连接扫描移动过程中，液体基本被限制在关于最后元件的所述空间内。
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公开(公告)号：CN102096339A
公开(公告)日：2011-06-15
申请号：CN201110039515.9
申请日：2006-05-23
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明涉及一种双台座光刻设备，其中，构建并设置台座使其相互协作，以便于执行连接扫描移动，用于将该设备从第一位置带到第二位置，其中在第一位置，所述液体被限制在所述台座中的第一台座支撑的第一衬底和最后元件之间，在第二位置所述液体被限制在两个台座中的第二台座支撑的第二衬底和最后元件之间，从而在连接扫描移动过程中，液体基本被限制在关于最后元件的所述空间内。
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公开(公告)号：CN1873542B
公开(公告)日：2011-04-13
申请号：CN200610099860.0
申请日：2006-05-23
申请人： ASML荷兰有限公司
摘要： 本发明涉及一种双台座光刻设备，其中，构建并设置台座使其相互协作，以便于执行连接扫描移动，用于将该设备从第一位置带到第二位置，其中在第一位置，所述液体被限制在所述台座中的第一台座支撑的第一衬底和最后元件之间，在第二位置所述液体被限制在两个台座中的第二台座支撑的第二衬底和最后元件之间，从而在连接扫描移动过程中，液体基本被限制在关于最后元件的所述空间内。
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