Invention Grant
- Patent Title: 半导体器件及其制造方法
- Patent Title (English): Semiconductor device and method of manufacture the same
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Application No.: CN200510138045.6Application Date: 2005-11-22
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Publication No.: CN1822351BPublication Date: 2014-08-20
- Inventor: 山本良明 , 田中幸一郎 , 矶部敦生 , 大柄根大辅 , 山崎舜平
- Applicant: 株式会社半导体能源研究所
- Applicant Address: 日本神奈川县
- Assignee: 株式会社半导体能源研究所
- Current Assignee: 株式会社半导体能源研究所
- Current Assignee Address: 日本神奈川县
- Agency: 中国专利代理(香港)有限公司
- Agent 吴立明; 王忠忠
- Priority: 2004-338229 2004.11.22 JP
- Main IPC: H01L21/84
- IPC: H01L21/84 ; H01L27/12 ; G02F1/13

Abstract:
半导体器件及其制造方法,本发明的目的在于提供一种通过不同于专利文献1中公开的方法从衬底分离薄膜晶体管和包括该薄膜晶体管的电路或半导体器件,并将该薄膜晶体管和电路或半导体器件移位到具有柔性的衬底上的方法。根据本发明,在绝缘膜处形成了大开口或多个开口,在开口处形成了连接薄膜晶体管的导电膜,以及移除了剥离层,然后,将具有薄膜晶体管的层移位到提供有导电膜等的衬底上。根据本发明的薄膜晶体管具有通过激光照射结晶化的半导体膜,并且防止不必用激光照射的剥离层暴露在激光照射下。
Public/Granted literature
- CN1822351A 半导体器件及其制造方法 Public/Granted day:2006-08-23
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IPC分类: