发明公开
EP0051567A1 Anordnung zur automatischen Justierung mindestens eines Gegenstandes 失效
用于至少一个对象的自动调节的装置。

Anordnung zur automatischen Justierung mindestens eines Gegenstandes
摘要:
Es werden eine Halbleiterscheibe und eine Schablone gegenüber einem lichtelektrischen Mess- und Abtastsystem und der beiden Gegenstände zueiander bei der schrittweisen Projektionslithografie für die Herstellung von Halbleiterstrukturen justiert. Es wird eine hochgenaue, dabei schnellstmögliche Justierung der beiden Gegenstände unter wahlweiser Benutzung der zur Zeit üblichen unterschiedlichen Justiermarken sowohl nach den dadurch beeinflusten Lichtströmen als auch nach ihrer Struktur ermöglicht.
Mittels eines optischen Abbildungssystems (10, 11, 12) wird ein Bild der Justiermarken 4, 5, 7, 8) beider Gegenstände (1,2) in der Abtastebene eines lichtelektrischen Mess- und Abtastsystems symmetrisch zu einer ortsfesten Achse dieses systems erzeugt.
Zur Bildsignalgewinnung werden zwei, durch einen auf der ortsfesten Achse liegenden Mittelsteg getrennte Bildausschnitte benutzt, die mit elektronischen oder mechanischen Mitteln erzeugt werden. Es entsteht so ein Zweistrahlverfahren. Die Bildabtastung erfolgt mittels einer Fernsehkameraröhre oder beweglicher Schlitzträger, wobei die beiden Bildausschnitte durch Kanalumschaltung abwechselnd zur Bildsignalerzeugung benutzt werden.
Ein Rechenwerk verarbeitet die Bildsignale und erzeugt Steuersignale für Stellglieder zur Justierung der beiden Gegenstände (1, 2).
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